Occasion KURT J. LESKER PVD 75 #9164257 à vendre en France

ID: 9164257
Thin film deposition system P/N: PEDP75TCCNN003 Source: Thermal Load: (2) Boats (Not both in parallel) Chamber internal dimensions: 14" x 14" x 24" CTI 8200 Compressor CTI CRYO-TORR 8F High-vacuum pump ULVAC GLD-201b Vacuum pump Trillium cryopump Material evaporated: Ni.
KURT J. LESKER PVD 75 est un équipement de dépôt de pulvérisateurs qui peut déposer des films mécaniques, optiques, électriques et magnétiques sur des substrats. Le système utilise quatre cibles de pulvérisation indépendantes, de 75 mm à 150 mm de diamètre, qui permettent de déposer jusqu'à quatre matériaux différents en même temps. Le PVD 75 utilise un pistolet triode pour diriger les gaz inertes (le plus souvent de l'argon) sur le matériau cible, ce qui permet l'éjection du matériau de surface et sa collecte sur des substrats situés dans la chambre. Les cibles sont logées dans une chambre de verrouillage de charge afin de permettre un accès facile à la cible et de minimiser la contamination de la chambre et des substrats. La pression de base de la serrure de charge est maintenue à 6 x 10-6 Torr lorsque l'unité n'est pas utilisée. KURT J. LESKER PVD 75 dispose également d'une machine de commande informatisée avec un écran tactile de 19 pouces qui permet aux utilisateurs de naviguer facilement à travers les fonctions de la machine. L'outil de contrôle comprend des paramètres axés sur le menu pour l'information de processus, l'information de recette de processus, l'état des actifs, les outils de support, l'enregistrement des données, la connectivité du port de données et d'autres fonctionnalités personnalisées. Le dépôt des pulvérisateurs se fait sous vide, et le modèle offre des performances de vide exceptionnelles. La pression la plus basse possible est de 5x10-5 Torr. Une pompe turbo moléculaire, appuyée par une combinaison d'une pompe diaphragme-mécanique, donne PVD 75 temps de descente de pompe rapide avec une montée en pression d'au plus 2x10-5 Torr en moins de cinq minutes. KURT J. LESKER PVD 75 comprend un équipement intégré de chauffage par échantillons, permettant jusqu'à 500 degrés Celsius de température du substrat. Le système permet également un contrôle précis du substrat et de la distance cible pour un dépôt uniforme. L'unité d'interception de cette machine de pulvérisation est conçue pour protéger les composants contre les dommages dus à la surtension ou l'exposition à des températures excessives. PVD 75 dispose également d'un outil de sécurité complet avec des capacités de reconnaissance des défauts et d'alarme. KURT J. LESKER PVD 75 est un atout de pulvérisation fiable et à la fine pointe de la technologie qui convient parfaitement pour une large gamme d'applications de dépôt de pulvérisation. Sa conception compacte, ses systèmes intégrés de chauffage et de sécurité et ses temps de pompage rapides en font un choix idéal pour la recherche et les applications industrielles.
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