Occasion KURT J. LESKER PVD 75 #9218896 à vendre en France

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ID: 9218896
Style Vintage: 2011
Thin film deposition system Base system: PVD 75 Base deposition system Process equipment options: MAGNETRON Sputtering: (3) Torus 3-source flange assemblies Sputtering source power supplies: (2) KURT J. LESKER 300W RF With auto match network KURT J. LESKER 1kW DC Substrate fixturing: Substrate fixture: (Top mount, base unit, add for options) Primary rotation Process gas inlet: Upstream pressure control Film thickness monitor or control: Film thickness monitor System control / Automation: Recipe driven computer control 2011 vintage.
L'équipement de pulvérisation KJL KURT J. LESKER PVD 75 est un système de dépôt de couches minces de haute performance et de qualité industrielle utilisé pour le revêtement d'une large gamme de matériaux. Il utilise la technologie du dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour déposer des couches minces de métal sur un substrat, créant ainsi des revêtements durables, résistants à la corrosion et électriquement conducteurs. L'unité est capable de produire des films à partir de presque n'importe quel matériau cible, y compris l'acier inoxydable, le titane, le cuivre, le nickel, le chrome, et plus. Le PVD 75 possède une chambre de matériau source de 2 « de diamètre et une chambre de procédé de 2 » de diamètre. L'alimentation de la chambre de matériau source est assurée par une alimentation en courant alternatif à fréquence variable, avec tension de sortie et courant réglables, permettant un contrôle précis de la vitesse de dépôt. KURT J. LESKER PVD 75 utilise une navette à équilibre électrostatique plus un pistolet à pulvérisation RF spécialement conçu qui réduit l'accumulation de matière sur le substrat et augmente l'uniformité des dépôts. Un automate contrôle avec précision les paramètres de pulvérisation, y compris la puissance, la pression du gaz, la température du substrat et la température du matériau source. Le PVD 75 dispose également d'un capteur de fin de dépôt embarqué qui surveille les performances du processus de pulvérisation et assure l'arrêt automatique si le processus ne fonctionne pas de manière optimale. En plus des caractéristiques intégrées, KURT J. LESKER PVD 75 propose également une gamme d'accessoires en option, dont une source élémentaire de 2 po de diamètre qui permet à l'outil de pulvériser une variété de matériaux cibles élémentaires, et une source rotative haute performance qui augmente l'uniformité sur le substrat. Le PVD 75 est également capable de déposer des sous-couches pour améliorer l'adhérence, des couches protectrices pour la résistance à la corrosion et des couches métalliques conductrices. L'actif est à la fois polyvalent et puissant, ce qui en fait un choix attrayant pour les opérations de pulvérisation industrielle. Il est également facile à mettre en place et à utiliser, ce qui en fait un choix idéal pour ceux qui ne connaissent pas les systèmes de pulvérisation.
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