Occasion KURT J. LESKER PVD 75 #9241893 à vendre en France
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Vendu
ID: 9241893
Thin film sputtering system
PVD Process chamber:
D-Shaped 304 SS, 24" high x 14" wide
Volume: 75 liters
Large access & replaceable view port
O-Ring sealed
Front access door
Flexible process ports
304L Stainless steel with 6061 aluminium hinged door
Vacuum pumping:
CTI-8F 1500 Cryopump
Compressor
3-Position pneumatic isolation gate valve
Touchscreen controller / PC Control
Oil-sealed mechanical rough pump: 5.7 CFM
Fore line valve
Dry roughing pump
Fore line trap
Mist eliminator
Roughing valve
Vacuum gauging:
Wide range vacuum gauge (Ion gauge & Pirani)
Mounting / Connection hardware
Adapters
Cabinet & framework:
Closed system support frame
Power distribution
Leveling pads
Cabinet construction carbon steel
Gray powder coat finish
Water manifold includes:
System components: Water distribution
Critical components: Interlocked flow switches
Shut off valves
NPT Connection, 1"
TEK-TEMP Recirculating water chiller, 6 gpm, 10000 Btu, 60 PSI
Sputtering source:
(3) MAGNETRON Sputtering source flange assemblies
(4) MAGNETRON Sputter cathodes
O-Ring sealed compression fittings: Source-to-substrate distance
Pneumatic driven deposition source shutter
Power supply:
KJLC 600 W RF Power supply with automatic matching network & control panel
(2) ADVANCED ENERGY DC Power supplies, 1.5 kW
Rack mount kits & connection cables
Top mounted custom substrate:
Single substrate, 12"
20 rpm
Stainless steel substrate holder:
Diameter: ¼"
High substrates: ¼"
Substrate heating & control:
Temperature: 350°C
Quartz Lamp / Resistive element
Process gas inlet / Upstream pressure control:
(2) MKS 1179 Flow controllers
MKS Baratron 626A Pressure transducer, 100 mTorr
Vent & purge pressure regulators
Film thickness monitor and optional control:
Quartz Crystal thickness monitor with single crystal head
Manual system control:
Touch screen controller: Button pump down & vent
Valves & shutter assemblies
Manual front panel control of power supplies
Switches
Full automatic process control
Graphical User Interface (GUI):
Vacuum screen display: Valve position & pump status
Vacuum status
Deposition screen:
Indicate shutter position
Deposition source status
Source material & target life log
Gas screen:
Mass flow controller modes
Indicate gas valve status
Display of pressure control settings & values
Motion screen display & input:
Speed & velocity profiles
PID Control parameters
Cooling screen: Water flow switch interlock status
Heating screen: Heater set points & control parameters
Turbo pump pressure (CDE): 5 x 10^-7 Torr
Power distribution:
Single service drop: 208 VAC, 30 A, 1 Phase
Component wiring: Centralized power distribution panel
EMO Protection
Safety interlocks
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 60 A.
Le KJL KURT J. LESKER PVD 75 est un équipement de pulvérisation dans la famille de produits de dépôt physique en phase vapeur (PVD). PVD 75 offre une gamme variée d'applications de dépôt, de gravure et d'oxydation. Il est conçu pour manipuler de grands substrats jusqu'à 12 pouces de diamètre. La conception modulaire du système de pulvérisation permet de l'adapter à des applications facilement et de façon rentable. KURT J. LESKER PVD 75 dispose d'un angle d'inclinaison unifié de sept degrés, permettant une flexibilité pour les applications de haute performance. L'utilisation de la technologie de nettoyage à plasma Evactron de KJL assure un traitement précis des plaquettes et des substrats, ce qui donne des rendements élevés. La machine automatisée de contrôle des processus de l'unité permet des processus de production rapides et reproductibles. Le PVD 75 comprend également un outil d'imagerie thermique de haute précision pour le contrôle de l'uniformité. L'actif d'imagerie thermique permet de caractériser et d'optimiser le processus de dépôt. Le modèle offre également une fonction de pression variable facultative qui permet un meilleur contrôle du processus de dépôt. KURT J. LESKER PVD 75 dispose d'une chambre à vide robuste, d'une pompe à vide et d'un équipement d'échappement, tous optimisés pour la répétabilité du procédé. La chambre à vide dispose d'une construction composite titane-aluminium-céramique, maximisant les performances et la fiabilité. Le système comprend également un adaptateur d'évacuation des gaz sous vide qui permet l'évacuation manuelle de la chambre. PVD 75 est conçu pour être utilisé dans un environnement de salle blanche de classe 1000. L'unité comprend une gamme de fonctionnalités conviviales, y compris une interface d'opérateur à écran tactile, des menus utilisateur intuitifs et une sélection de recettes de processus. La machine est également compatible avec une gamme de protocoles de mise en réseau TCP/IP, permettant le fonctionnement à distance de plusieurs unités KURT J. LESKER PVD 75. Dans l'ensemble, le KJL PVD 75 est un outil de pulvérisation perfectionné, conçu pour répondre aux besoins des applications de dépôt et de gravure les plus exigeantes. La conception modulaire de l'actif permet une flexibilité et une rentabilité, tandis que son modèle de contrôle automatisé des processus garantit des processus de production précis et reproductibles. L'équipement offre également une chambre à vide, une pompe et un système d'échappement robustes, ainsi qu'une gamme de fonctionnalités conviviales, permettant un fonctionnement et un contrôle faciles.
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