Occasion KURT J. LESKER Sputtering system #293749628 à vendre en France

KURT J. LESKER L'équipement de pulvérisation est un outil de pointe et sophistiqué utilisé dans les procédés de dépôt de couches minces dans divers contextes de recherche et industriels. Ce système offre une gamme complète de fonctionnalités avancées, ce qui en fait une solution très recherchée pour les applications de pulvérisation qui nécessitent précision, efficacité et fiabilité. Au cœur de l'unité de pulvérisation, se trouve sa chambre à vide de pointe, qui joue un rôle central pour assurer un environnement propre et contrôlé pour le dépôt de couches minces. La chambre est construite à partir de matériaux de haute qualité qui sont résistants à la corrosion et sont conçus pour maintenir des conditions de vide ultra-élevé essentielles pour les processus de pulvérisation. La machine à vide est équipée de mécanismes de pompage avancés tels que des pompes turbomoléculaires et des pompes cryogéniques pour atteindre et maintenir les niveaux de vide requis tout au long du processus de dépôt. Un des composants clés de l'outil KURT J. LESKER Sputtering est l'ensemble cible, qui abrite le matériau cible à pulvériser sur le substrat. Le matériau cible peut être un élément pur, un alliage ou un composé selon les propriétés souhaitées du film mince déposé. L'actif est conçu pour répondre à une variété de tailles et de formes cibles pour répondre aux exigences spécifiques du processus de pulvérisation. De plus, l'ensemble cible est équipé de mécanismes de refroidissement pour réguler la température de la cible et éviter la surchauffe lors du dépôt. Le procédé de pulvérisation dans le modèle KURT J. LESKER est facilité par une alimentation RF ou DC de forte puissance qui génère l'énergie électrique nécessaire pour ioniser le gaz de pulvérisation et propulser les ions vers le matériau cible. L'équipement offre un contrôle précis des paramètres de pulvérisation tels que la densité de puissance, le débit de gaz et le temps de dépôt pour obtenir des couches minces uniformes et reproductibles. Le gaz de pulvérisation peut être inerte (par exemple de l'argon) ou réactif (par exemple de l'oxygène) selon le type de film mince déposé et les propriétés recherchées. Le système de pulvérisation par pulvérisation comprend des options avancées de surveillance et de contrôle des processus, y compris la surveillance du taux de dépôt en temps réel, la mesure de l'épaisseur et l'analyse de la composition des films. Ces capacités permettent aux utilisateurs d'optimiser les paramètres du processus de pulvérisation et d'assurer la qualité et la cohérence des couches minces déposées. L'unité est également équipée d'une interface conviviale qui permet une programmation, un fonctionnement et une gestion des données faciles. En plus de ses capacités techniques, la machine à pulvériser KURT J. LESKER est connue pour sa conception robuste, sa grande fiabilité et sa facilité d'entretien. L'outil est conçu pour minimiser les temps d'arrêt et maximiser la productivité, ce qui en fait une solution rentable pour les applications de dépôt en couches minces dans les milieux de recherche et industriels. Dans l'ensemble, Sputtering représente une solution de pointe pour les procédés de dépôt de couches minces, offrant des fonctionnalités avancées, un contrôle précis et une grande fiabilité pour obtenir des revêtements de couches minces de haute qualité. Avec sa conception polyvalente et ses capacités complètes, ce modèle KURT J. LESKER Sputtering est un outil précieux pour un large éventail d'applications dans les sciences des matériaux, l'électronique, l'optique et d'autres industries.