Occasion LEYBOLD HERAEUS A550 VZK #9097914 à vendre en France
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ID: 9097914
Taille de la plaquette: 3"
Sputtering system, 3"
Processes: RF Etch, RF sputtering, RF bias sputtering
Chamber size: 590 mm
Throughput: (10) Substrates, 3" Dia per load
Microprocessor controlled
Final vacuum: 5 x 10^-7 mbar
RF Power supplies: IS 7.5 and TIS 1.2
Vacuum chamber:
~24" Diameter
Baffles for pre-sputtering and sputter-etching
Water cooled substrate carrier
Substrate mounting plate
System components:
LEYBOLD System
LEYBOLD Sputtering chamber: ~24” diameter
LEYBOLD RF-Etching, RF sputtering
LEYBOLD Matching network
LEYBOLD RF-Bias, penningvac, medel PMhsz
LEYBOLD TMP450 Turbo pump
LEYBOLD NT450 Controller
LEYBOLD ES 7.5 RF Power supply, 13.56 MHz, huttinger
LEYBOLD Control rack: 18kVA, 35A
LEYBOLD Thermovac TM 220S2
LEYBOLD Penningvac PM 411S2
(2) LEYBOLD ME03 0-10V
(2) LEYBOLD ATP 01 Digital displays
(2) LEYBOLD Auto switches
Display.
LEYBOLD HERAEUS A550 VZK est un équipement de pulvérisation - un type de technologie de revêtement utilisé pour créer des couches de films minces uniformes sur les surfaces des matériaux. Ce système est utilisé pour déposer des revêtements uniformes de haute qualité sur presque n'importe quelle forme (objets plats, courbes ou complexes). Il est capable de travailler avec un large éventail de matériaux, y compris les métaux, les oxydes, les semi-conducteurs, les films organiques et les matériaux diélectriques. A550 L'unité de pulvérisation VZK est composée de plusieurs composants, dont la cathode (la source du matériau de pulvérisation), le substrat (le matériau à pulvériser) alimentations électriques, et une enceinte à vide. La cathode est typiquement réalisée dans le même matériau que le revêtement en cours de pulvérisation, et est placée dans la chambre de pulvérisation et activée. Les matériaux de substrat sont placés sur un étage de pulvérisation, où l'unité d'alimentation haute tension est utilisée pour créer un champ électrique afin d'accélérer les électrons vers le matériau cathodique. Lorsque les électrons frappent le matériau cathodique, ils ionisent le matériau et créent un bombardement ionique, qui expulse physiquement les atomes de matière dans la chambre à vide. Une fois que ces atomes atteignent le substrat, ils déposent un mince revêtement du matériau désiré. L'épaisseur de la couche déposée peut être contrôlée avec précision en faisant varier l'énergie ionique, l'angle de localisation du substrat et la durée de mise en oeuvre du procédé de pulvérisation. La machine à pulvériser LEYBOLD HERAEUS A550 VZK est très fiable et polyvalente, permettant un dépôt rapide et efficace des revêtements sur une variété de matériaux. Il nécessite une consommation relativement faible, et est facilement portable. L'outil est spécifiquement conçu pour fournir un faible impact environnemental, avec l'utilisation de cibles refroidies à l'azote liquide pour maintenir une température de travail relativement élevée. Dans l'ensemble, A550 VZK sputtering actif est un choix idéal pour produire des couches de film uniformément minces sur une variété de matériaux. Il fournit un processus de dépôt efficace et très fiable pour un large éventail de matériaux, et est idéal pour la production à petite et grande échelle.
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