Occasion LEYBOLD HERAEUS A550 VZK #9097914 à vendre en France

LEYBOLD HERAEUS A550 VZK
ID: 9097914
Taille de la plaquette: 3"
Sputtering system, 3" Processes: RF Etch, RF sputtering, RF bias sputtering Chamber size: 590 mm Throughput: (10) Substrates, 3" Dia per load Microprocessor controlled Final vacuum: 5 x 10^-7 mbar RF Power supplies: IS 7.5 and TIS 1.2 Vacuum chamber: ~24" Diameter Baffles for pre-sputtering and sputter-etching Water cooled substrate carrier Substrate mounting plate System components: LEYBOLD System LEYBOLD Sputtering chamber: ~24” diameter LEYBOLD RF-Etching, RF sputtering LEYBOLD Matching network LEYBOLD RF-Bias, penningvac, medel PMhsz LEYBOLD TMP450 Turbo pump LEYBOLD NT450 Controller LEYBOLD ES 7.5 RF Power supply, 13.56 MHz, huttinger LEYBOLD Control rack: 18kVA, 35A LEYBOLD Thermovac TM 220S2 LEYBOLD Penningvac PM 411S2 (2) LEYBOLD ME03 0-10V (2) LEYBOLD ATP 01 Digital displays (2) LEYBOLD Auto switches Display.
LEYBOLD HERAEUS A550 VZK est un équipement de pulvérisation - un type de technologie de revêtement utilisé pour créer des couches de films minces uniformes sur les surfaces des matériaux. Ce système est utilisé pour déposer des revêtements uniformes de haute qualité sur presque n'importe quelle forme (objets plats, courbes ou complexes). Il est capable de travailler avec un large éventail de matériaux, y compris les métaux, les oxydes, les semi-conducteurs, les films organiques et les matériaux diélectriques. A550 L'unité de pulvérisation VZK est composée de plusieurs composants, dont la cathode (la source du matériau de pulvérisation), le substrat (le matériau à pulvériser) alimentations électriques, et une enceinte à vide. La cathode est typiquement réalisée dans le même matériau que le revêtement en cours de pulvérisation, et est placée dans la chambre de pulvérisation et activée. Les matériaux de substrat sont placés sur un étage de pulvérisation, où l'unité d'alimentation haute tension est utilisée pour créer un champ électrique afin d'accélérer les électrons vers le matériau cathodique. Lorsque les électrons frappent le matériau cathodique, ils ionisent le matériau et créent un bombardement ionique, qui expulse physiquement les atomes de matière dans la chambre à vide. Une fois que ces atomes atteignent le substrat, ils déposent un mince revêtement du matériau désiré. L'épaisseur de la couche déposée peut être contrôlée avec précision en faisant varier l'énergie ionique, l'angle de localisation du substrat et la durée de mise en oeuvre du procédé de pulvérisation. La machine à pulvériser LEYBOLD HERAEUS A550 VZK est très fiable et polyvalente, permettant un dépôt rapide et efficace des revêtements sur une variété de matériaux. Il nécessite une consommation relativement faible, et est facilement portable. L'outil est spécifiquement conçu pour fournir un faible impact environnemental, avec l'utilisation de cibles refroidies à l'azote liquide pour maintenir une température de travail relativement élevée. Dans l'ensemble, A550 VZK sputtering actif est un choix idéal pour produire des couches de film uniformément minces sur une variété de matériaux. Il fournit un processus de dépôt efficace et très fiable pour un large éventail de matériaux, et est idéal pour la production à petite et grande échelle.
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