Occasion LEYBOLD HERAEUS Z400 #9363002 à vendre en France

ID: 9363002
Style Vintage: 1982
Sputtering system (3) Cathodes RF Mode Maximum sample size: 3" Number of targets: 3 Reactive gases: Ar, O2 Compressed air pressure: 7 to 9 Bars Water pressure: 4 to 7 Bars Substrate bias: Maximum -150 V Substrate heater: Maximum 500°C Base pressure: <2 x 10^-5 mBar Generator: Type: IGD 0.5/13500 Power: 0.5 kW, 220 V, 50 Hz DC Power supplies: 500 W RF Power supplies: 600 W Power supply: 220 V, 50 Hz, 25 Amps 1982 vintage.
LEYBOLD HERAEUS Z400 est un équipement hautement spécialisé utilisé dans une variété d'industries différentes. Il s'agit d'un système de dépôt sous vide couramment utilisé dans la production de couches minces, telles que celles utilisées dans la production de composants microélectroniques, de cellules solaires et d'autres technologies à couches minces. Z400 est unique dans sa capacité à réaliser des dépôts de haute densité avec une épaisseur et un dopage uniformes, tout en ayant un excellent contrôle du processus et la fiabilité. LEYBOLD HERAEUS Z400 est composé de trois composants principaux : l'alimentation électrique, la chambre à vide et la source de dépôt. L'alimentation comprend deux sorties haute tension, l'une pour courant continu (DC) et l'autre pour courant alternatif (AC). La sortie DC est utilisée pour piloter la pulvérisation avec Ar ou Xe tandis que la sortie AC est utilisée pour piloter le bombardement ionique, également connu sous le nom de dépôt assisté ionique. Les potentiels de haute tension et les fréquences associées à chaque sortie sont réglables, ce qui permet un meilleur contrôle et une meilleure manipulation des processus. La chambre à vide est constituée d'une interface entre le gaz de procédé et la source de dépôt. C'est là que le niveau de vide est maintenu tout en permettant l'introduction de gaz réactif et non réactif dans la chambre. Cette section contient également le port nécessaire à l'introduction de matériaux cibles dans l'unité. La source de dépôt est le lieu où le matériau cible est placé et pulvérisé sur le matériau substrat ci-dessous. Sur Z400, on utilise une machine tournante de pulvérisation à tambour pour obtenir un dépôt uniforme à haute densité. Cet outil contient également des fenêtres à quartz qui permettent une capacité de combustion accélérée des sources, tandis que le couvercle de la chambre est équipé d'un atout de canon à électrons pour le nettoyage des substrats et les processus de bombardement ionique. LEYBOLD HERAEUS Z400 est un modèle avancé et fiable de pulvérisation, offrant un contrôle de procédé et des performances d'équipement inégalées dans le dépôt de couches minces pour un large éventail d'applications. Sa combinaison de pulvérisation tournante du tambour, de bombardement ionique et de contrôle intensif des processus en font un outil idéal pour produire un dépôt de film optimal.
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