Occasion LEYBOLD HERAEUS Z650 #27258 à vendre en France
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ID: 27258
Sputtering system equipped with load lock / exit chamber with Leybold Trivac D65B prevacuum pump, Leybold Turbovac 1000 turbo molecular pump, and RF plasma cleaning. Process chamber A with Alcatel 2063 prevacuum pump and Pfeiffer TMH1001P turbodrag pump (TMH is as good as new), 3 x new PK 200 sputtering cathodes positions, RF and DC sputtering power supply, (combined with process chamber B), Balzers QMG064 massaspectrometer; Process chamber B with Leybold Trivac D65B prevacuum pump, Leybold Turbovac 1000 turbo molecular pump, 2 x new PK 200 sputtering cathodes positions, 1x substrate heating position, RF and DC sputtering power supply, (combined with process chamber A), RF bias, Balzers QMG064 massaspectrometer, can be retrofitted to your specs.
LEYBOLD HERAEUS Z650 est un équipement de pulvérisation utilisé pour le dépôt de couches minces. Ce système est très polyvalent et peut être utilisé pour divers matériaux, tels que les oxydes, les nitrures et les métaux. L'unité se compose d'une chambre à vide ultra-haute, d'une cathode magnétron et d'un contrôleur de processus sous vide embarqué (EVPC). La machine peut accueillir jusqu'à deux cibles de pulvérisation et peut être utilisée à la fois pour la pulvérisation continue et la pulvérisation continue pulsée. LEYBOLD HERAEUS Z 650 a une gamme de caractéristiques pour assurer la stabilité, la répétabilité et la précision du processus. Ces caractéristiques comprennent : un micro-processeur basé sur un contrôleur de processus sous vide intégré (EVPC) avec une interface utilisateur écran et tactile de 5,7 pouces ; une triple station de pompage turbo-moléculaire avec un dispositif de pompe avant ; un outil de refroidissement à cycle fermé avec un refroidisseur intégré ; et un atout d'auto-positionnement qui assure des résultats de pulvérisation répétables. Z650 offre un nombre impressionnant de paramètres de processus, permettant à l'utilisateur de personnaliser le modèle à leurs besoins spécifiés. Pour obtenir des résultats reproductibles et précis, l'équipement offre un système de contrôle de débit précis, une haute tension réglable, un capteur de pression précis et un emplacement précis des cibles. La machine a également la capacité d'utiliser des alliages à haute température pour des cibles, permettant le dépôt des films les plus difficiles. Z 650 offre un certain nombre de fonctionnalités supplémentaires, telles qu'un moniteur plasma, un dispositif anti-adhésif et un moniteur de pulvérisation haute fréquence. L'outil dispose également d'un moniteur de dépôt précis, pour assurer le dépôt précis et cohérent des films. Le dispositif anti-adhésif permet de retirer facilement les films des surfaces difficiles à nettoyer. Le moniteur de pulvérisation à haute fréquence assure un dépôt complet et uniforme des films. LEYBOLD HERAEUS Z650 est un atout de pulvérisation très polyvalent et précis, capable de déposer des films de divers matériaux. Avec ses nombreuses caractéristiques, telles que le modèle de refroidissement en boucle fermée, le positionnement précis des cibles, le moniteur de pulvérisation haute fréquence et le moniteur à plasma, l'équipement est conçu pour fournir un excellent contrôle sur les paramètres du processus. Ce système est idéal pour les fabricants qui ont besoin de procédés de pulvérisation précis et fiables.
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