Occasion MAGNETRON Line #9027880 à vendre en France
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ID: 9027880
Sputtering deposition line for ITO glass:
(2) Industrial computers and PLC systems
Metalizes transparent electric conductive film on glass
Vacuum magnetron sputtering deposition technology
Dual cathodes
MF sputtering technology and international advanced control system
Deposits SiO2 / ITO on the float glass
Process is automatically controlled in series.
Une ligne MAGNETRON est un type de système de pulvérisation qui relève de la classe des procédés de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Ces systèmes utilisent une source d'énergie électromagnétique de forte puissance, typiquement appelée MAGNETRON, pour pulvériser sélectivement du matériau sous forme de vapeur sur une surface cible. Cette source d'énergie est contenue dans une chambre à vide, à travers laquelle le matériau déposé est ensuite propulsé par la force combinée du MAGNETRON et de la pression de vide. La source MAGNETRON fournit un procédé de pulvérisation cathodique stable et répétable ainsi qu'un débit élevé, c'est pourquoi elle est si populaire pour les applications de dépôt et de revêtement conformes à grande échelle. Les lignes MAGNETRON sont également largement utilisées dans une variété d'autres procédés industriels, tels que les composants automobiles et aérospatiaux, et les composants de dispositifs médicaux. Les lignes MAGNETRON utilisent une alimentation MAGNETRON pour générer et envoyer le matériau pulvérisé à la surface du substrat. Cette alimentation de forte puissance génère un champ magnétique alternatif au sein de la chambre à vide, ce qui crée une série de plasmas vers le bas formant un nuage d'électrons sous la surface du substrat. Les électrons sont ensuite accélérés au sein du plasma par le champ magnétique alternatif, formant un bombardement dit de matériau cible induit par les ions. Le matériau pulvérisé est ensuite transféré sur le substrat sous l'effet de la pression exercée par les flux d'électrons et d'ions. L'avantage de la pulvérisation MAGNETRON est que le transfert de matière est relativement uniforme et répétable grâce à la source d'énergie stable de MAGNETRON. De plus, le matériau peut bien adhérer au substrat même à des températures élevées. Cette technologie est également utile en raison de son large éventail de taux de dépôt - élevé à des températures plus basses et bas à des températures plus élevées. Dans l'ensemble, la pulvérisation cathodique est un système de revêtement fiable et rentable largement utilisé dans plusieurs industries pour des applications de revêtement et de dépôt en couches minces. Il est capable de déposer de manière précise et répétée des couches minces de matériau sur un substrat, en veillant à ce que les produits finis soient de la plus haute qualité.
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