Occasion MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 2460 #50094 à vendre en France
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ID: 50094
Sputtering system, turbo and cryo pump replaced
Electrical rack with original operating system (window 2000 and Wonderware with GE 90-30)
SST Chamber with motor drive lid
Four pockets He backside 6" wafer notch (or custom)
10 KW/Matching Network RFPP for target
2 KW/Matching Network RFPP for substrate
He backside gas with pressure control
Pumping: Turbo pump and water pump package with ISO 250 Flange.
QDP40 Dry Pump foreline
17” Target backing plate
Currently disassembled and in parts.
MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460 est un système de métallisation à semi-conducteur conçu pour déposer des couches extrêmement minces de films métalliques à basse température sur divers matériaux de substrat. Cette unité utilise des pressions partielles de gaz de procédé et une alimentation en courant continu négative pour générer des films très uniformes avec un contrôle serré de la rugosité et de l'épaisseur de surface. La machine à pulvériser utilise une forme unique pour former des films parfaitement adaptés à la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. MEIVAC 2460 offre un contrôle et une flexibilité exceptionnels sur la structure et la composition des couches minces. Ces couches sont réalisées en utilisant des gaz réactifs de haute pureté et une cathode-plasma triode la mieux adaptée pour la métallisation à basse température et fine ligne. Le plasma est formé par application d'une haute tension à travers une chambre de réaction remplie des gaz réactifs, créant un environnement riche en ions idéal pour le dépôt de couches minces. L'outil de pulvérisation d'ALCATEL 2460 est équipé d'une table de substrat tournante. Ceci permet un débit élevé et est réglable à la fois pour les positions angulaires et radiales. Ceci assure l'uniformité et la répétabilité des couches minces sur tous les substrats. COMPTECH 2460 est en outre équipé d'un injecteur de gaz obturé à bords de chambre pour des débits de pulvérisation plus élevés. La 2460 produit des films extrêmement uniformes en contrôlant strictement le profil de flux sur le substrat, ce qui entraîne de faibles effets de charge, une bonne adhérence et une durée de vie nettement améliorée. En outre, MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460 dispose d'une alimentation en courant continu négative très uniforme, offrant un excellent contrôle de l'érosion cible et un ajustement de la puissance de pulvérisation sur la cartographie du substrat. Il dispose également d'un réservoir de gaz de procédé avancé, de sorte que la pureté et la pression optimales du gaz de procédé peuvent être maintenues pendant son fonctionnement. MEIVAC 2460 a de nombreuses applications, y compris la fabrication OLED, les transistors à couches minces, les supports d'enregistrement magnétique, les dispositifs plasmoniques et optoélectroniques. Grâce à son contrôle avancé et sa flexibilité, ALCATEL 2460 offre des performances imbattables, une fiabilité et des options personnalisables.
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