Occasion MRC 603 III #9248081 à vendre en France

ID: 9248081
Sputtering system 3-Target vertical RF and DC Power supply: 3kW Omega optical pyrometer to measure temperature of substrate Load lock: 13" x 13" CTI CRYOGENICS Cryo-Tor cryopump, 8" With Ln2 cryotrap for additional water vapor pumping (3) Positions: (2) For RF / DC Sputtering For DC magnetron sputtering.
Le MRC 603 III est un équipement de pulvérisation sous vide conçu et fabriqué par Oxford Instruments. C'est un système avancé de dépôt en phase vapeur (PVD) qui est utilisé pour le dépôt de couches minces dans les industries semi-conductrices et connexes. MRC 603-III est une unité de pulvérisation magnétron à huit chambres entièrement intégrée et optimisée pour des performances de revêtement de haute qualité. Il dispose d'une configuration unique de pistolet à pulvérisation magnétron à double état, qui aide à maximiser la qualité des films minces. La machine comprend également une chambre de verrouillage de charge, une turbo-pompe moléculaire haute performance (TMP) et un outil intégré de surveillance des processus sous vide. Il est capable de pulvériser divers matériaux à des taux de dépôt élevés et offre une couverture supérieure des applications de grande surface. 603 III utilise une variété de gaz réactifs à haute performance et de matériaux cibles pour le dépôt. L'actif est équipé de boucliers électromagnétiques et peut accueillir jusqu'à quatre magnétrons à la fois. 603-III intègre un large éventail de technologies exclusives de contrôle des procédés, telles que le contrôle avancé de la température, le contrôle du débit de gaz et l'homogénéité accrue des matériaux déposés. Le modèle assure également une répétabilité maximale du processus de dépôt par chargement et déchargement automatisés du substrat, et une répétabilité cohérente du substrat au substrat. En plus d'un large choix de mesures de contrôle de la température, de la vitesse, de la pression et du vide, la MRC 603 III offre une excellente cohérence de procédé et fournit des procédés de dépôt de haute qualité pour divers substrats, tels que le métal, le plastique, le verre, la céramique et d'autres matériaux spécialisés. En outre, l'équipement dispose de capacités avancées de contrôle, de surveillance et de diagnostic du sous-système. Tous les paramètres du processus peuvent être facilement contrôlés, fournissant des données précises sur la performance du système et l'état du processus à tout moment. MRC 603-III dispose également d'un écran tactile avancé pour l'entrée de données, la surveillance des processus, le diagnostic des unités et le contrôle des processus. En conclusion, le 603 III est une machine de pulvérisation perfectionnée et économique qui offre des performances supérieures en couches minces. Avec son ensemble de fonctionnalités robustes, l'outil est très adapté pour le dépôt de grande surface et la production de couches minces de haute qualité avec des résultats de processus reproductibles.
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