Occasion MRC 603 #293761946 à vendre en France

Le MRC 603 est un équipement de pulvérisation utilisé pour le dépôt de couches minces. Il utilise une source de magnétron planaire à courant continu qui utilise un aimant permanent pour générer un flux de plasma dirigé. Le système de pulvérisation est équipé d'une source rf de puissance variable pour fournir un contrôle supplémentaire de l'énergie ionique. 603 est une unité compacte, capable de produire des taux de dépôt de film jusqu'à 1000 nm/min sur des substrats jusqu'à 8 pouces (203 mm) de diamètre. La machine est équipée d'une cathode chauffée, d'une chambre à vide primaire, d'un régulateur de débit massique 4 quadrants, d'un outil d'interception, d'un obturateur et d'une pince. La cathode chauffée est l'élément principal de la MRC 603 qui détermine la qualité du dépôt en couches minces obtenu. Il utilise un dispositif de chauffage à température contrôlée et des capteurs de température contrôlés par ordinateur pour maintenir la bonne température et assurer des résultats de dépôt uniformes et cohérents. La chambre à vide primaire est une chambre cylindrique à fente du côté de la cible de pulvérisation. Cette chambre est conçue pour maintenir un environnement propre exigeant pour le processus de dépôt. Il a un fond décontracté pour améliorer le pompage uniforme, et un anneau d'échappement à vide bas pour réduire la pression globale et protéger le substrat de la contamination. Le régulateur de débit massique à 4 quadrants est utilisé pour réguler les composants individuels du mélange actif de gaz de pulvérisation et maintenir les conditions optimales pour le processus de dépôt. L'outil d'interception surveille la pression atmosphérique, la température du substrat, la puissance de pulvérisation et les gaz. Un modèle d'obturateur et de pince permet d'accéder à la zone de pulvérisation pour la préparation et l'enlèvement du substrat. L'obturateur s'ouvre automatiquement lorsque le générateur rf est allumé et se ferme lorsque la puissance est coupée. La pince sert à maintenir le substrat en position et à faciliter l'échange du substrat avec un minimum de temps d'arrêt. 603 est un équipement de pulvérisation hautement fiable, robuste et efficace utilisé dans une grande variété d'applications de dépôt en couches minces. Il est facile à mettre en place et offre un contrôle précis des paramètres géométriques nécessaires pour obtenir des résultats de dépôt en couches minces uniformes et reproductibles.