Occasion MRC 603 #9008357 à vendre en France

MRC 603 est un équipement de pulvérisation conçu pour le dépôt de couches minces, capable de pulvérisation magnétique et de courant continu de matériaux de haute qualité. Le système est équipé d'une cathode magnétron de 200 mm, qui permet une pulvérisation précise et répétable dans les deux sens. L'unité dispose d'une chambre à vide capable de recevoir des substrats jusqu'à 6 pouces de diamètre et jusqu'à un pouce d'épaisseur, avec une pression de base inférieure à 5 × 10-6 Torr. Son fonctionnement est contrôlé par un panneau tactile PC avec logiciel intégré, ce qui simplifie et permet aux utilisateurs de définir des paramètres tels que la tension d'alimentation, le contrôle du débit de gaz, les paramètres plasma et d'autres paramètres associés pour un contrôle précis du processus de pulvérisation. Les composants principaux de la machine sont une alimentation électrique, chambre à vide, cathode avec anode, cible, support et bouclier. 603 fournit une plate-forme facile à utiliser pour déposer des films de haute qualité sur une gamme de matériaux. Il est capable de pulvériser à la fois des ions positifs et négatifs, à partir de sources à angle simple et double, permettant une pulvérisation plus précise et plus directionnelle. L'outil comprend également un canon à électrons secondaire indépendant qui permet de contrôler l'angle de dépôt du faisceau d'ions, ce qui permet de créer des dépôts de films plus épais et plus lisses sur une gamme de matériaux. L'actif fournit un contrôle numérique précis de tous les paramètres, y compris la distance cible, la pression de pulvérisation, la puissance, la tension et d'autres paramètres connexes. La chambre est également équipée d'une pompe turbomoléculaire haute performance qui peut être utilisée pour réduire le temps de dépôt et obtenir des qualités de film plus élevées. Le modèle de pulvérisation est également doté d'un procédé de nettoyage in situ qui permet de contrôler la vitesse de dépôt et la qualité du film. L'équipement est équipé d'une station automatique de centrage et de pompage du substrat, permettant un très faible niveau de distance cible-substrat pour une pulvérisation précise et répétable. MRC 603 est conçu pour fournir une pulvérisation fiable d'un large éventail de matériaux pour la recherche et l'industrie. Sa grande précision, sa répétabilité et sa flexibilité le rendent adapté à diverses applications, allant des couches minces aux dispositifs optiques et biomédicaux, en passant par le dépôt de supraconducteurs, de matériaux optiques, etc.