Occasion MRC 603 #9160654 à vendre en France

Fabricant
MRC
Modèle
603
ID: 9160654
Sputtering system.
Le MRC 603 est un équipement de pulvérisation magnétron à courant continu conçu pour déposer des couches minces sur des substrats pour diverses applications. Le système fonctionne en utilisant une combinaison de magnétron continu, d'alimentation électrique, de chambre de procédé et d'unité de vide. Le magnétron fournit des électrons et des ions nécessaires aux procédés de pulvérisation, l'alimentation régulant la sortie du magnétron. La chambre de procédé est typiquement une petite chambre cylindrique, avec les supports de substrat montés au centre. La chambre de procédé dispose d'un orifice pour la machine de pompage et de contrôle des gaz, ainsi que d'un autre orifice pour le magnétron. L'outil sous vide aide à maintenir la pression nécessaire pour les processus de pulvérisation. L'actif 603 est un modèle de pulvérisation particulièrement polyvalent, car il est capable de diverses configurations de pulvérisation RF, DC, Ar/O2 et réactive. Dans le dépôt de pulvérisateurs RF, le magnétron est couplé avec une alimentation haute fréquence pour créer un champ haute fréquence entre le magnétron et l'électrode du substrat. Ce champ provoque une ionisation du gaz pulvérisateur, entraînant une pulvérisation. Le dépôt de pulvérisateurs à courant continu implique à la fois une alimentation en courant continu et un magnétron à courant continu, créant un champ continu entre le magnétron et le substrat. Le champ continu crée une tension de polarisation négative à la surface du substrat, ce qui augmente l'énergie d'ionisation des pulvérisateurs. Ar/O2 les dépôts de pulvérisateurs profitent d'un environnement riche en oxygène, surveillé et régulé par un équipement de contrôle des gaz. L'oxygène se combine avec Argon pour former des ions Ar +, ce qui provoque la pulvérisation du matériau cible. Le dépôt de pulvérisateurs réactifs combine le dépôt de pulvérisateurs à courant continu avec des gaz réactifs tels que l'azote ou le carbone. En introduisant les gaz appropriés, on peut déposer un film mince du matériau réactif, tel que des films de nitrure ou de carbure. MRC 603 est un système de pulvérisation robuste et fiable conçu pour répondre à une variété de besoins de dépôt de couches minces. Ses options de configuration polyvalentes en font un excellent choix pour une variété d'applications. L'unité fonctionne à des niveaux de puissance élevés, le champ magnétique étant scellé et entouré par une traversée sous vide. Le contrôle de l'alimentation permet à l'utilisateur de modifier les niveaux de puissance pour diverses configurations de pulvérisation, assurant ainsi un meilleur contrôle et une plus grande précision du processus. 603 machine est un excellent choix pour créer des films de haute qualité sur divers matériaux de substrat.
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