Occasion MRC 603 #9206603 à vendre en France

Le MRC 603 est un équipement de pulvérisation à haute performance fabriqué et vendu par Materials Research Corporation. Le système est spécialement conçu pour les applications où le dépôt en couche conforme est nécessaire à une vitesse de dépôt élevée et ultra lisse. L'unité se compose de plusieurs composants, dont une chambre de pré-nettoyage, une chambre de dépôt sous vide, une septa de gaz haute pression, une alimentation et un module de contrôle de vide. La chambre de pré-nettoyage de la machine est équipée d'une source de lumière avancée à basse pression, hyperfréquence de haute intensité et EUV. Cette chambre est utilisée pour pré-nettoyer la surface du substrat avant le dépôt par pulvérisation. Ceci permet d'optimiser la propreté de surface et l'adhérence du film déposé. Le dépôt se fait dans la chambre de dépôt sous vide, qui est scellée par un septa sous vide. La pression in situ est réglable de 0,1 mtorr à 20 torr et le gaz de procédé est réglable de 1 à 99 %, permettant le dépôt de films à un large éventail de niveaux de pression. L'alimentation fournit une large gamme de niveaux de puissance RF et une fréquence stable de 10 kHz à 5 MHz. Le substrat est mis en rotation pendant le processus de pulvérisation pour assurer un dépôt de film uniforme. Une gamme de gaz de dépôt tels que l'argon, l'oxygène et l'azote peuvent être utilisés pour obtenir les effets de métallisation désirés. L'application de différents rapports entre les gaz basiques et les gaz nobles permet un large éventail de taux de dépôt. Le module de contrôle du vide permet de maintenir une pression de base stable tout au long du dépôt. 603 est un outil de pulvérisation idéal pour le dépôt de couches minces de haute qualité. L'actif peut accueillir un large éventail de substrats allant des cristaux KOH et du verre à quartz aux plaquettes épaisses et aux cartes de circuit. Le modèle est également adapté à une variété de techniques de couches minces hautes performances, y compris le dépôt physique en phase vapeur, le dépôt chimique en phase vapeur, la pulvérisation et la pulvérisation magnétron. Enfin, l'équipement est très fiable et facile à utiliser, ce qui en fait un choix idéal pour les membres de la communauté scientifique.