Occasion MRC 603 #9269412 à vendre en France

MRC 603 est un équipement de pulvérisation conçu pour le dépôt de couches minces. Il s'agit d'une plate-forme à vide élevé, haute puissance et polyvalente pour pulvériser des films minces en mode DC et RF. La 603 est équipée d'un canon à électrons unique et de deux sources puissantes de pulvérisation magnétron capables de produire des cibles planes et cylindriques. Le système utilise une chambre turbo-pompée à vide élevé avec une pression de base supérieure à 5x10-5 Torr, permettant des conditions de vide ultra élevé. Les contrôleurs conviviaux qui prennent en charge le fonctionnement manuel et automatique offrent un fonctionnement et un contrôle intuitifs et faciles pour la MRC 603. L'unité comprend des paramètres de procédé tels que la température, la pression, la vitesse de dépôt et l'épaisseur du film. Il dispose également d'autres fonctionnalités avancées telles que le réglage de fréquence, la pulvérisation d'impulsions et les processus sélectionnables. La 603 dispose de deux unités de contrôle magnétron planaire qui permettent à l'utilisateur de contrôler quatre cibles de pulvérisation magnétron planaire à des températures différentes. Ces unités comportent le détecteur de fin de fonctionnement qui peut arrêter le processus de pulvérisation lorsque l'épaisseur de film désirée est atteinte. La source de faisceau ionique concentré (CIB) permet de pulvériser des matériaux avec précision et précision. Il dispose de deux distances de travail réglables avec commande manuelle ou automatique. Le CIB est capable de produire des films d'alliages et d'autres matériaux de haute qualité. Le support de fonctionnement multi-chambres sur MRC 603 permet d'interconnecter jusqu'à trois chambres et de fonctionner en tandem, ou de réaliser des processus séparés dans chaque chambre. C'est une caractéristique avantageuse pour les utilisateurs qui nécessitent des dépôts en plusieurs étapes. La figure 603 fournit une source d'énergie RF réglable pour la commande du réseau d'adaptation externe des sources de pulvérisation magnétron. La source d'énergie continue permet à l'utilisateur de régler la tension du canon à électrons et protège la machine des situations de surtension ou de surtension. MRC 603 est un excellent choix pour le dépôt de couches minces rentables et de haute qualité pour diverses applications. Sa polyvalence et son interface conviviale le rendent adapté à la recherche ainsi qu'au traitement industriel des couches minces.