Occasion MRC 822 #9388780 à vendre en France

Le MRC 822 est un équipement de pulvérisation ionique réactive bi-source performant. Il est équipé de deux sources de pulvérisation indépendantes : un canon à faisceau d'électrons et un canon à magnétron, tous deux montés dans une chambre de blindage et équipés d'un système de refroidissement en boucle fermée. Le canon à faisceau d'électrons est calibré et contrôlé par une alimentation spécifique, tandis que le canon à magnétron est alimenté par une source d'énergie externe. Le canon à faisceau d'électrons est une conception dite « faisceau sur cible », c'est-à-dire qu'il contient une source d'électrons, une optique de focalisation, et une cible en tungstène têtu soutenue par le refroidissement de l'eau. Cette source de pulvérisation a une large gamme de paramètres réglables, y compris le courant de faisceau, la tension de polarisation du canon et les temps d'ouverture de l'obturateur, permettant un contrôle précis de la composition du matériau pulvérisé, de la vitesse et de l'épaisseur du film. Le canon à magnétron est conçu pour la pulvérisation à rendement total, dans laquelle le gaz d'argon est libéré d'une cathode afin de maintenir le matériau cible dans un état fondu, permettant la génération de nanoparticules. Cette source peut également être ajustée, des paramètres tels que débit de gaz, composition de gaz, pression étant réglables. La chambre de pulvérisation est composée de trois parties principales : la chambre à vide elle-même, un support de substrat avec porte-échantillon et un écran magnétique. La chambre a une vitesse de pompage de 20 mTorr et est équipée d'un Ion Gauge Controller (IGC) pour contrôler avec précision la pression de la chambre. Le support de substrat peut accueillir des échantillons jusqu'à 200 mm de dimension, et est capable de rotation et de chauffage jusqu'à 375 ° C. La chambre présente également plusieurs caractéristiques de sécurité, dont un détecteur de fuites et un clapet d'évacuation d'urgence, qui peut réduire rapidement la pression de la chambre. Dans l'ensemble, 822 est une unité de pulvérisation avancée qui offre une gamme complète de paramètres réglables de pulvérisation, une grande fixation de substrat, et une machine de refroidissement efficace, permettant la génération de films de haute qualité de diverses épaisseurs et compositions. Il convient à un large éventail de projets de recherche sur les revêtements et les couches minces, tels que la croissance épitaxiale, le dépôt de métaux et d'intermétalliques, les surfaces oxydées et les barrières de diffusion.