Occasion MRC 8620 #293605798 à vendre en France

Le MRC 8620 est un équipement de pulvérisation à haute performance utilisé pour des applications de dépôt physique en phase vapeur (PVD) dans la recherche sur les matériaux, l'ingénierie de surface et divers autres domaines techniques. Le système de pulvérisation est doté d'une configuration magnétron à 8 cibles, à angle variable, qui offre une large gamme de flexibilité de processus, y compris la pression variable, la température, la tension et le courant. L'unité est construite avec une chambre en acier inoxydable robuste, la grille sous vide et la source. Il dispose également d'une pompe à diffusion longue durée de vie avec un temps de cycle inférieur à 3 minutes, et d'une pompe à rugissement turbomoléculaire pour un temps de cycle rapide. Des régulateurs de température et de gaz de haute précision permettent un contrôle précis de la température et de la pression pendant le dépôt. Une interface de contrôle avancée facilite le fonctionnement intuitif et peut stocker jusqu'à 1000 recettes pour une duplication de processus facile. 8620 est capable de déposer une grande variété de matériaux, y compris des métaux et des alliages, des oxydes, des nitrures et des polymères sur un large éventail de substrats. Il permet de contrôler précisément l'épaisseur, la composition et la granulométrie des films pour diverses applications, y compris les cibles de pulvérisation, les revêtements protecteurs (tels que la protection contre la corrosion), les revêtements antireflet, les oxydes conducteurs transparents, etc. Avec des sources d'énergie élevées, MRC 8620 est capable d'assurer un dépôt à haut débit. Chacune des huit sources indépendantes dispose d'une machine à champ magnétique actif, ce qui permet un ramassage rapide et un contrôle précis des paramètres du processus. La puissance RF est distribuée jusqu'à 10kW avec la fréquence programmable et les modulations, tandis que la puissance continue peut être fournie jusqu'à 3kW avec la possibilité d'ajuster le rythme des impulsions et les temps de montée/chute. Une source d'ions supplémentaire peut être incorporée pour l'activation du plasma. 8620 offre également une large gamme de caractéristiques de sécurité, y compris un arrêt automatique en cas d'urgence, des systèmes d'enclenchement des portes, un démarrage automatique basé sur un minuteur ou un horaire, et un outil de surveillance de la puissance RF pour la détection des pannes. De plus, l'unité comprend un actif d'échappement pour la manipulation efficace des gaz réactifs et des vapeurs. Le MRC 8620 est un modèle de pulvérisation perfectionné qui offre une large gamme de capacités de procédé liées au PVD, y compris le dépôt à haut débit, l'épaisseur précise du film et le contrôle de la composition, ainsi qu'une large gamme de caractéristiques de sécurité. Avec sa construction fiable, son interface de contrôle intuitive et son temps de cycle rapide, 8620 est une solution idéale pour des applications dans la recherche de matériaux, l'ingénierie de surface et d'autres domaines techniques connexes.