Occasion MRC 8620 #293638700 à vendre en France

MRC 8620
ID: 293638700
PVD Sputtering system.
MRC 8620 est un outil de pulvérisation complet et robuste conçu pour les applications à haut débit. Cet équipement polyvalent comprend plusieurs sources de pulvérisation et est capable de produire des films de haute qualité sur des substrats aussi bien de grande que de petite taille. Le système dispose d'une gamme complète d'énergie de processus plasma ainsi que de composants matériels et logiciels conçus pour maximiser la productivité et la répétabilité du processus. 8620 est une unité de pulvérisation entièrement automatisée comprenant un profil bas, une chambre de pulvérisation modulaire, une zone de verrouillage de charge généreuse et un choix de quatre sources de pulvérisation à courant continu ou RF indépendantes. Chaque source peut accueillir des aimants rectangulaires et circulaires pour un total de huit aimants. Les substrats ferromagnétiques peuvent être réalisés avec une variété de matériaux - métaux, céramiques, polymères et isolants - à l'aide de pulvérisation optique, d'évaporation thermique ou de pulvérisation à cibles multiples. La chambre comprend une essuie-glace in situ pour transférer efficacement des films de cible à cible lors d'opérations de pulvérisation à cibles multiples. Le contrôleur d'outils avancé assure le contrôle de tous les paramètres de pulvérisation, y compris la température, la pression, la vitesse de la pompe, le débit de gaz, la tension de polarisation, la tension de pulvérisation, et plus encore. En plus de la surveillance et du contrôle des processus en temps réel via une interface graphique, l'actif est équipé de multiples fonctionnalités de protection, permettant aux opérateurs de définir régulièrement les paramètres de dépôt souhaités sans compromettre l'uniformité du film ou endommager les substrats. La grande chambre de serrure de charge de la MRC 8620 peut accueillir jusqu'à huit substrats de 6 « /8 »ou jusqu'à quatre substrats de 8 « /12 » pour le chargement/déchargement simultané. Le modèle est également équipé d'un étage de rotation en chambre, permettant un traitement uniforme sur toute la surface plane. Dans l'ensemble, la plate-forme de pulvérisation polyvalente 8620 offre aux utilisateurs la flexibilité nécessaire pour couvrir un large éventail d'applications, des cellules solaires à couches minces aux écrans tactiles et aux dispositifs MEMS. Combiné à sa conception fiable et efficace, cet équipement peut être un atout précieux pour tout laboratoire axé sur la productivité.
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