Occasion MRC 902 #293631817 à vendre en France

MRC 902 est un équipement de pulvérisation conçu pour déposer des films minces sur des substrats. Il est capable de produire des films de haute précision avec un grand degré d'uniformité et de contrôle. Le système comprend une source d'ions, un récipient à vide, une source d'énergie et un porte-échantillon. La source d'ions 902 est une source à fort courant et à faible émission de gaz à effet de serre (GD). Cette source est capable de produire un faisceau avec une large gamme de niveaux d'énergie, permettant à l'utilisateur d'adapter l'énergie du faisceau pour obtenir l'épaisseur de film, la composition et les propriétés morphologiques souhaitées. La source GD a également une auto-polarisation réglable, permettant à l'utilisateur de contrôler le courant ionique pendant le processus de pulvérisation. La cuve à vide de la MRC 902 est une chambre en acier inoxydable avec une unité de régulation de pression. Ceci permet d'assurer le dépôt dans un environnement sous vide contrôlé. La cuve est équipée de plusieurs orifices d'entrée/sortie pour les gaz nécessaires à la pulvérisation. Ces ports sont conçus pour une installation et une maintenance faciles. La source d'énergie pour 902 est un générateur de courant continu (courant continu) à haute tension. Ce générateur est capable de produire des courants compris entre 0 et 250 A, ce qui permet à l'utilisateur d'adapter la puissance de sortie à des applications spécifiques. La machine comporte également un moniteur inductif de courant de Foucault pour une surveillance constante de la température du substrat. Enfin, la MRC 902 comprend un porte-échantillon de haute précision. Ce support permet à l'utilisateur de terminer précisément le substrat sous vide, assurant de bonnes performances lors du dépôt. Le porte-échantillon peut également être ajusté pour contrôler la position angulaire du substrat et pour recevoir différentes tailles de substrat. En résumé, 902 outil de pulvérisation est capable de produire des films minces de haute précision avec une excellente uniformité et contrôle. L'actif comprend une source d'ions, un récipient sous vide, une source d'énergie, un porte-échantillon et d'autres caractéristiques qui permettent à l'utilisateur d'adapter le processus de dépôt à des applications spécifiques.