Occasion MRC 903 #9199289 à vendre en France

Fabricant
MRC
Modèle
903
ID: 9199289
Sputtering system (3) DC Targets MAGNETRON DC Supply 10 kW Load lock CTI 8 On-board cryo pump CTI 8200 On-board compressor MKS Digital MFC SIEMENS PLC Hydraulic system Heater: Etch position Aluminum Missing parts: Etcher Mechanical pump RF Etch SiCr and AL targets.
MRC 903 est un équipement avancé de pulvérisation sur table qui fournit un dépôt de couche mince de haute qualité avec une répétabilité fiable des processus. Il s'agit d'un système de pulvérisation rapide et complet qui produit des couches minces pour des applications incluant des revêtements optiques, MEMS, optoélectronique, MEMS et ASIC. 903 est une unité de pulvérisation triaxe avec une source de graphite et un porte-substrat rotatif. Il a un protégé 5kV le transistor bafouille le fusil et une boîte du gaz avec jusqu'à huit lignes du gaz et deux valves de vide de valve. Il dispose d'un canon à électrons à haute énergie pour la pulvérisation et d'un ensemble de canons à électrons avec une cible plane. La MRC 903 fournit également une variété de sources auxiliaires telles que les sources d'ions, les sources de plasma d'argon, les générateurs de radiofréquences et de micro-ondes. La 903 dispose d'une chambre de dépôt unitisée à trois niveaux unique qui permet simultanément la pulvérisation et l'évaporation de cibles multiples avec des alimentations électriques et des conditions de chambre distinctes. Il a une excellente uniformité de la chambre de dépôt avec un large éventail de paramètres de dépôt, y compris la pression de la chambre, la température, et les niveaux de gaz et d'ionisation. L'interface utilisateur de MRC 903 est exceptionnellement personnalisable et permet un contrôle précis du traitement par pulvérisation. La 903 est construite avec des étages linéaires motorisés à actionnement pneumatique qui permettent un déplacement et un positionnement précis de la cible et du substrat. Il a un plateau double face qui fournit un champ magnétique stable et ingénieux pour maintenir la cible et le substrat en place. Les plaques magnétiques de surface MRC 903 peuvent également être utilisées pour contrôler la position angulaire du porte-substrat rotatif. La conception de la 903 offre également une protection pratique pour le porte-substrat et la cible, ce qui en fait un choix sûr et fiable pour le dépôt de couches minces. Il contient tous les éléments nécessaires au dépôt de couches minces de haute qualité, y compris la source d'évaporation, le plateau et les sources de substrat et de graphite. En résumé, MRC 903 est une machine à pulvériser sur table fiable qui peut fournir un dépôt de couches minces de haute qualité et répétable pour une variété de technologies de semi-conducteurs. C'est un appareil ingénieux et personnalisable avec de nombreuses fonctionnalités pour assurer un dépôt efficace et efficace des couches minces. Ses excellentes caractéristiques de conception et sa facilité d'utilisation en font une solution idéale pour les chercheurs nécessitant des opérations de pulvérisation contrôlée avec précision.
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