Occasion MRC 943 #9199304 à vendre en France

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Fabricant
MRC
Modèle
943
ID: 9199304
Sputtering system Full RF / DC Sput capabilities (Super switch) MRC RF Etch 3kW RF PS (112-43-000) DC Upgraded to AE 10 kW Master with mini panel included Heater lamps: No load lock (Presently) Gas system upgraded to MKS baratron head, with Ar MFC Independent N2 flow control on gas 2 (2) PLANAR Mag cathodes Inset cathode T-3 Position: KW-Hr run timer Includes: Cryo (8) cold heads Compressors (Air cooled) Cryo lines Mech pump with tool Manuals included.
Le MRC 943 est un équipement de dépôt de pulvérisateurs utilisé pour l'application de couches minces. Il s'agit d'un système entièrement automatisé qui permet le dépôt par pulvérisation de couches minces simples ou multicouches dans une chambre à vide. 943 est équipé de trois sources magnétron de 12 pouces de diamètre, fournissant une zone de dépôt de 24,4 pouces carrés. La chambre peut accueillir jusqu'à 28 substrats, ou 25 plaquettes, à chaque course. Le MRC 943 dispose d'une unité de commande intégrée en boucle fermée qui comprend une installation magnétron tournante. Ceci permet la croissance de films uniformes sur chaque substrat. La machine dispose également d'un outil de bobine à bobine, qui permet l'utilisation de cibles de pulvérisation continue et prévoit le dépôt de plusieurs couches minces sans changement d'outil. L'installation magnétron tournante permet également le contrôle manuel de cibles individuelles, ce qui permet d'optimiser les propriétés du film telles que l'épaisseur et l'uniformité. L'actif comprend également des logiciels pour la sélection des cibles, le chauffage des substrats et les biais. 943 a une chambre à vide avec une pression de base de 10-6 Torr et une gamme de pression dynamique de 10-3 à 10-6 Torr. De plus, une pompe à ions à 3 étages est incorporée pour assurer un dépôt à vide élevé et à fond bas. Le modèle comprend également un équipement de manutention automatique du substrat qui permet de charger et décharger automatiquement les substrats sans casser le vide de la chambre. Le chariot de manutention de substrat est équipé de plusieurs alimentations de levage qui assurent un traitement efficace de substrat jusqu'à 30 plaquettes à la fois. Le système est piloté par ordinateur, avec une interface utilisateur graphique (UI) facile à utiliser qui permet à l'utilisateur de personnaliser divers paramètres de dépôt tels que la puissance, les cibles et la température du substrat. De plus, l'unité peut être surveillée via des interfaces RS-232 ou GPIB. Dans l'ensemble, le MRC 943 est une machine de dépôt de pulvérisateurs polyvalente et puissante pour une variété de films minces. La conception en chambre ouverte et la manipulation automatisée des substrats permettent aux utilisateurs de traiter rapidement et efficacement de nombreux substrats. Et avec la flexibilité pour ajuster les cibles et les températures des substrats, les films produits présentent une excellente homogénéité et répétabilité. 943 est un excellent choix pour les universités, les instituts de recherche et les laboratoires industriels qui ont besoin d'un outil de pulvérisation à haute performance fiable.
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