Occasion MRC 943 #9227138 à vendre en France
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Vendu
ID: 9227138
Sputtering system
Compressor
Mech pump
System hardware:
MRC Load lock assembly
CTI CT-8 Cryo pump:
Load lock
Process chamber
(3) SIERRA Scientific planar 5"x15" cathodes
(3) Target shielding sets
ADVANCED ENERGY MDX-10 DC Power supply: 10 kW
MRC Hivac valve
With MRS throttle valve assembly
(3) MKS MFC
MKS 390 Baratron assembly
MRC Hydraulic system
Etch:
ENI OEM-12A RF Generator
ENI Matchwork 10 RF Matching unit
Rack hardware:
GOULD / MODICON PLC Controller
GP-303 IG Controller
MKS 252 Throttle valve controller
MKS 247 MFC Controller: 4 Channels
(5) GP-275 Convectrons
TCR DC Voltage power supply (MRC Rail bias).
Le MRC 943 est un équipement de pulvérisation utilisé pour déposer des couches minces sur une surface de substrat. Il agit en bombardant un matériau cible avec des particules à haute énergie pour éliminer une petite partie de la cible et la déposer sur le substrat. Le système comprend une chambre à vide abritant la source de pulvérisation et une cathode cible, une unité de pompage à vide pour maintenir un environnement basse pression, un ensemble d'alimentations pour contrôler les courants électriques et un contrôleur de température de procédé. La cible est généralement constituée de divers matériaux, dont des métaux, des alliages, des céramiques et des minéraux. Il est généralement chauffé à haute température pour augmenter son rendement en pulvérisation. Les particules de haute énergie utilisées pour pulvériser le matériau cible peuvent provenir soit d'une source magnétron, soit d'une source RF. Le procédé peut être mis en oeuvre à une large gamme de pressions pour contrôler la vitesse de dépôt. L'environnement sous vide à l'intérieur de la chambre de pulvérisation contribue à maximiser le rendement du matériau pulvérisé en limitant le nombre de réactions concurrentes qui peuvent se produire. La pression est généralement maintenue en dessous de 1 millitorr, une unité de mesure de pression. La température du procédé peut également être régulée par un régulateur de température, ce qui permet au processus de pulvérisation de se produire à un rythme beaucoup plus élevé. Pour contrôler les courants électriques appliqués au substrat et à la cible, la machine utilise un ensemble d'alimentations. Les alimentations peuvent être programmées pour délivrer des modes de fonctionnement en courant constant ou impulsionnel. En mode constant, l'alimentation peut délivrer un courant électrique continu et ininterrompu au matériau cible et substrat, permettant un dépôt régulier sur le substrat. En mode impulsionnel, l'alimentation électrique peut commuter le courant électrique rapidement, ce qui permet un dépôt très contrôlé. La 943 est un outil très efficace et précis pour le dépôt de couches minces sur des substrats. Son rendement élevé et son contrôle précis de la température et de la pression en font un atout idéal pour une large gamme d'applications, y compris la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs à l'état solide, la microélectronique, l'optique et la production d'écrans plats. Avec son fonctionnement efficace et sa conception robuste, le MRC 943 est un modèle idéal pour des dépôts de films fiables et reproductibles.
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