Occasion MRC Eclipse Mark II #293822989 à vendre en France

ID: 293822989
Taille de la plaquette: 6"
Physical Vapor Deposition (PVD) System, 6" (6) CTI Cryo pumps: Conflat flange 24-hole bolt pattern (2) CTI-8 (4) CTI-8F (2) Pairs of Reactive gas MFC’s Cathode doors on process chambers 3 & 4, 12” Cassette stages No ‘A’ or ‘B’ tower No blowers No argon MFC’s No index wheel No motor No etch chamber door No computer.
MRC Eclipse Mark II est un équipement de pulvérisation réactif utilisé pour créer des couches minces de divers matériaux sur différents substrats. Le système utilise le principe de la pulvérisation magnétron, qui implique le bombardement d'un gaz inerte par des ions de haute énergie. Les ions rejettent le matériau de la cathode, le matériau cible, sur le substrat. Eclipse Mark II dispose d'une source de pulvérisation magnétron à courant continu (DC), avec une cible solide de 8 po, montée sur un support de substrat rotatif 0-90 °. L'unité est capable de pulvériser jusqu'à quatre cibles simultanément, permettant le dépôt de couches minces multicouches. Différents magnétrons, inserts gazeux et ensembles obturateurs sont disponibles, permettant une flexibilité et une configuration sans égale au processus souhaité par l'utilisateur. La chambre de 3 pouces de diamètre est construite en matériau à faible expansion thermique et dispose d'une machine de pompage qui a un vide de base de 0,05 mBar. Ce niveau de vide fournit l'environnement nécessaire pour le dépôt de couches ultra minces et l'ingénierie de surface pour être complété plus efficacement. L'outil est équipé de commandes d'automatisation complètes comprenant un contrôleur d'asservissement 4 axes et un contrôleur logique programmable. Cela permet une automatisation précise et efficace de l'ensemble du processus de dépôt. L'actif est également compatible avec un éditeur de recettes hors ligne et un logiciel de contrôle des dépôts dédié. Cela permet aux utilisateurs de configurer et de personnaliser facilement leur processus en fonction de chaque exigence d'application. MRC Eclipse Mark II est conçu pour être utilisé dans des applications de R&D et industrielles, telles que le revêtement des pulvérisateurs, les revêtements de protection et les structures de couches minces avancées. En outre, le modèle peut être utilisé pour les composants optiques ou mécaniques, l'électronique grand public, la diélectrique, et une variété d'autres applications industrielles. Eclipse Mark II fournit un débit élevé tout en fournissant des processus de dépôt précis et reproductibles. En fin de compte, l'équipement offre une combinaison équilibrée de simplicité, de précision et d'efficacité.
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