Occasion MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse #9226263 à vendre en France

MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse est un équipement de pulvérisation flexible conçu pour le dépôt de couches minces sur des substrats. Il utilise des sources d'énergie RF pour les procédés de pulvérisation et de dépôt et est particulièrement bien adapté pour le dépôt de métaux, de diélectriques et de semi-conducteurs. Le système Eclipse de la MRC comprend une chambre de dépôt principale et un loadlock qui renferme des substrats d'échantillons. La chambre de dépôt contient une variété de composants, dont un générateur RF à faible bruit, des sources de plasma, des bobines de refroidissement et une unité d'injection de gaz. Le loadlock est conçu pour réduire la contamination et contient deux stations et un mécanisme de navette pour transférer les substrats entre le loadlock et la chambre de dépôt. SOCIÉTÉ DE RECHERCHE SUR LES MATÉRIAUX La machine Eclipse est conçue pour un taux de dépôt élevé avec des films minces de haute qualité. Le générateur RF RF produit de l'énergie produite par magnétron et produit une atmosphère contrôlée à l'intérieur de la chambre. Diverses sources de pulvérisation, y compris des sources à faibles émissions et à fortes émissions, sont utilisées dans le processus de dépôt. Ces sources de pulvérisation sont couramment utilisées avec de l'argon et d'autres gaz réactifs ou inertes tels que l'azote et l'oxygène. En utilisant ces sources, on peut réaliser des films de différentes densités, conductivités et autres propriétés. Pour d'autres processus, l'outil Eclipse est équipé d'une gamme de composants auxiliaires. Ces composants comprennent une chambre de navette, une bobine de magnétron avant, un régulateur de débit massique, une source de décharge et un générateur de plasma. Tous ces composants sont conçus pour travailler les uns avec les autres afin d'optimiser les conditions de processus et de minimiser la contamination. MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION L'actif Éclipse est également équipé d'un modèle de sécurité intégré. Cet équipement surveille divers paramètres tels que la température, la pression, l'alimentation en gaz de procédé et les conditions de la chambre. De plus, le système MRC Eclipse permet aux utilisateurs de personnaliser les paramètres pour garantir des performances optimales. Cela comprend la capacité de choisir la vitesse souhaitée de dépôt du film et la taille des particules, ainsi que la capacité de modifier les sources de pulvérisation et d'autres composants si nécessaire. SOCIÉTÉ DE RECHERCHE SUR LES MATÉRIAUX L'unité Eclipse est très avancée et convient à une variété d'applications. Il est fiable et facile à utiliser, ce qui en fait un choix idéal pour les laboratoires de recherche et les environnements de production. Sa conception flexible et conviviale en fait un excellent choix pour les procédés de dépôt et de pulvérisation.