Occasion MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse #9238093 à vendre en France

MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse est un équipement de pulvérisation conçu pour la production de couches minces. Il est couramment utilisé dans la réalisation de films minces semi-conducteurs, composés et optiques. MRC Eclipse est un système de pulvérisation à une seule étape avec un étage de substrat chauffé et un verrou de charge pour la préparation de l'échantillon. SOCIÉTÉ DE RECHERCHE SUR LES MATÉRIAUX Le modèle Eclipse est équipé d'une source de pulvérisation magnétron à fréquence unique de 13,56 MHz, 400 W, qui est conçue pour écouler 1-4 cm3/min de gaz rare, ce qui permet un taux d'érosion cible plus élevé. La source fournit deux séries de sorties, la première impulsion fournit une pulvérisation rapide qui se traduit par un nettoyage accru du substrat, tandis que la seconde impulsion maintient une couverture uniforme tout en créant une couche plus uniforme avec moins de contaminants. Eclipse est conçu pour fonctionner en mode manuel ou entièrement automatisé. Le mode automatisé dispose d'une interface informatique qui permet un fonctionnement facile de l'unité et permet aux utilisateurs d'enregistrer et de charger leurs propres recettes. Le calculateur est également capable de contrôler les paramètres de la machine tels que la pression et le débit du gaz rare, permettant un contrôle précis des paramètres de pulvérisation. MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse a une plage de température du substrat actif de -150 à + 600 ° C, ce qui permet une large gamme d'applications de dépôt en couches minces telles que l'oxydation et le recuit de différents matériaux. Le positionneur de substrat actif permet également de charger des échantillons d'un positionneur à l'autre, ce qui facilite le changement d'échantillons entre les étapes du procédé. MRC Eclipse dispose également d'une multitude de fonctionnalités conçues pour maintenir la répétabilité des processus et réduire les temps d'arrêt. Il dispose d'un cycle de nettoyage automatisé de la chambre, et est conçu pour minimiser l'accumulation de matériaux pulvérisés à l'intérieur de la chambre. Il dispose également d'un moniteur automatisé à cristaux de quartz in situ qui permet une surveillance précise de l'épaississement et de la qualité des couches minces. Toutes ces caractéristiques font de MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse un puissant outil de pulvérisation capable de répondre aux besoins d'une variété d'applications de dépôt en couches minces. Sa répétabilité, sa plage de température élevée, son fonctionnement automatisé et sa vitesse de pulvérisation élevée lui permettent d'être un actif de dépôt fiable et rentable.