Occasion MRC Planar #129081 à vendre en France

MRC Planar est un type d'équipement de pulvérisation haute performance. Il utilise une source de magnétron planaire pour créer des dépôts à partir d'un matériau cible sur un substrat. Ce système est conçu pour générer des dépôts de couches minces uniformes, répétables et précis. L'unité est constituée de la source de pulvérisation magnétron, d'une chambre à vide et d'une source d'alimentation. Le magnétron présente une cible plane avec des aimants permanents sur le dos et la face proche du substrat. La cible est maintenue en place par une chambre à vide qui sépare l'atmosphère de la chambre du matériau cible. L'alimentation fournit la tension et le courant nécessaires au magnétron. La tension et le courant sont optimisés pour obtenir la vitesse de pulvérisation désirée. La source de pulvérisation magnétron fonctionne avec un champ magnétique interne. Ceci crée des particules ionisées qui sont ensuite accélérées vers la cible. Lorsque les particules affectent la cible, elles transfèrent leur énergie sous forme de chaleur et provoquent la pulvérisation du matériau cible dans la chambre à vide. Les particules ionisées sont accélérées à travers le substrat à une vitesse réglable qui est optimisée pour le dispositif en cours de fabrication. La chambre à vide est une bouteille en verre étanche avec des entrées de gaz et contrôlée par une pompe à vide externe. Il sert à séparer l'atmosphère de la chambre du matériau cible et à prévenir la contamination par des sources extérieures. La machine est très polyvalente et convient à un large éventail d'applications telles que le dépôt de couches minces pour les dispositifs de haute performance, les cellules solaires et les écrans. Il est très efficace et offre une couverture uniforme qui est difficile à réaliser avec d'autres techniques. De plus, sa construction robuste et sa conception modulaire offrent un processus de dépôt de film fiable et répétable. L'outil peut être personnalisé pour des applications spécifiques et offre une pulvérisation efficace pour une variété de matériaux. Il peut être utilisé pour divers procédés de revêtement et permet un contrôle élevé de la vitesse et de l'uniformité des dépôts.