Occasion MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV #9199385 à vendre en France
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Vendu
ID: 9199385
Taille de la plaquette: 6"
Sputtering system, 6"
Not included: Pumps
SPUT Process chambers:
SPUT1:
Cathode: RM-12
Magnet pack type: RMX
C/S Spacing: 2.0"
Adapter type: Profiled
Target material: TiW
Shield material: Plasma spray
(2) Pie pan shields
Gas ring
Reactive gas: No
Regas injection: Rear
Argon MFC size: 200 sccm
Backplane type: MXB
Quick cool type: Air
DC Power supply: 10 kW
Target change kit: No
RF Bias network: No
Fast regen cryo
SPUT2:
Cathode: RM-12
Magnet pack type: RMX
C/S Spacing: 2.0"
Adapter type: Profiled
Target material: Ru
Shield material: Plasma spray
(2) Pie pan shields
Gas ring
Reactive gas: No
Regas injection: Rear
Argon MFC size: 200 sccm
Backplane type: MXB
Quick cool type: Air
DC Power supply: 10 kW
Target change kit: No
RF Bias network: No
Fast regen cryo
SPUT3:
Cathode: RM-12
Magnet pack type: SPA
C/S Spacing: 2.5"
Target material: Au or Au/5%Ni
Shield material: SS
(2) Pie pan shields: No
Gas ring: No
Reactive gas: Kr
Regas injection: Rear
Argon MFC Size: 200 sccm
Backplane type: MXB HTB
Quick cool type: Air
DC Power supply: 10 kW
Target change kit: No
RF Bias network: No
Fast regen cryo
SPUT4: No
Etch:
Hard/Soft etch type: Soft etch ICP
Adapter type: New style
Quick change kit: No
Shield material: SS
(2) Pie pan shields
SE Adapter shield: No
Gas ring: No
Reactive gas: No
Regas injection: Door
Backplane type: Round
Quick cool type: Water
Variable ICP network: No
RF Bias network: Finger
Fast regen cryo
Bell jar cycle count
Loadlock/Plenum:
Loadlock atmosphere sensor: Old style
Plenum gate valve: Vat
L/L Cryo fast regen
Plenum cryo fast regen
RGA Type: No
Index cycle counter: No
Wafer handling:
Wafer:
Type: Si / SEMI
Tab type: Clamp
Clamp ring material: SS
C/R Edge exclusion: 1.5mm
Latch type: SS Bearing
MFC Vendor: MKS
Equipe/PRI Robot: CE
Equipe/PRI Controller: 100 Series
Index stepper cont. loc: Vacuum tank
Index drive type: Solarus
Aligner type: Equipe/PRI
L/A Latches enabled
SMIF Interface: No
Laminar blower
Facilities/Utilities:
Pump: QDP80
AC Voltage: 208 V
AC Frequency: 60 Hz
PDU Set for 50 Hz: No
208 Buss bar in PDU
GFI in PDU
Cryo compressor type: 9600
Compressor power / Pump power from PDU
Water lines
Currently de-installed.
MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV est un équipement de dépôt de pulvérisateurs conçu pour le traitement d'une gamme de structures et de dispositifs semi-conducteurs aux normes exigeantes. Grâce à sa technologie améliorée de chambre de mouvement et de dépôt multi-axes, MRC Eclipse Mark IV offre une meilleure qualité de produit et un débit accru pour la fabrication de semi-conducteurs. TEL Eclipse Mark IV utilise deux types différents de dépôts par pulvérisation. Le premier est Direct Current Sputtering (DCSP) qui est utilisé pour la gravure de pulvérisation. Il utilise une source d'énergie continue pour générer des ions qui bombardent la surface du substrat, éliminant et déposant du matériau sur le substrat à volonté. Ce procédé est particulièrement utile pour la gravure de précision. La seconde est la pulvérisation magnétron déséquilibrée à haut débit (HRuMS) qui est utilisée pour le dépôt de pulvérisateurs. Cette technique utilise un plasma à haute énergie généré dans une chambre à vide pour ioniser et déposer du matériau sur le substrat. Le magnétron, un électroaimant, est utilisé pour façonner et focaliser le plasma pour obtenir des taux de dépôt plus élevés que les techniques traditionnelles de dépôt par pulvérisation. Eclipse Mark IV dispose également d'une technologie de mouvement avancée. L'automatisation du mouvement assure l'acheminement précis des substrats et des matériaux vers la chambre. Le système assure également des niveaux élevés de précision et de répétabilité lors de la pose et du montage des substrats. De plus, l'unité utilise une machine de commande en boucle fermée pour contrôler avec précision le mouvement de la chambre de dépôt et s'assurer que tous les composants se déplacent en douceur et avec précision vers des positions exactes. TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV offre un outil de chauffage de substrat précis et flexible, permettant une plage de température de 20 ° -400 ° C L'actif est conçu pour assurer une uniformité thermique maximale et est équipé d'une plaque chaude et d'un dissipateur thermique. Ce modèle de chauffage fournit une large gamme de tailles et de formes de substrat à traiter. MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV utilise une technologie avancée de contrôle du vide pour maintenir des conditions de traitement cohérentes et propres pour chaque travail. L'équipement est conçu pour fournir une atmosphère cohérente avec une pression de chambre maximale de 6 Torr. En outre, le système dispose d'un revêtement CryoDiode pour minimiser la contamination unitaire. Ce revêtement peut également être surveillé in situ avec un moniteur d'oxygène. De plus, une douche automatique de substrat équilibrée en pression est incluse pour un traitement efficace du substrat. MRC Eclipse Mark IV de MRC fournit des technologies avancées de dépôt, de mouvement, de chauffage et de contrôle du vide pour fabriquer des structures et des dispositifs semi-conducteurs aux normes exigeantes. Il offre une meilleure qualité de produit et un débit accru par rapport aux systèmes de dépôt traditionnels et est un choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs.
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