Occasion MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV #9288402 à vendre en France
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Vendu
ID: 9288402
Taille de la plaquette: 4"-6"
PVD System, 4"-6"
Controller upgraded
Power supply: 10 kW
(3) PVD chambers
(1) Etch chamber
Ultra high vacuum system
Atmospheric wafer handler
Electronics and control system
Wafer standard: SEMI
Wafer handling: Standard wafer handling of fragile wafers
Chamber 1:
ICP
Power supply: RF Generator
Ar Entry: Door injection
Shield type: (2) Shields
Shield treatment: Stainless steel
Backplane: Non-contact single zone
Chamber 2:
Titanium Nitride (Ti/TiN)
Process kit type: TiN (RMX-10)
Target type: Solder Bnd
Cathode type: RMX-10
Power supply: 10 kW
Tap setting: 3
T/S Spacing, 2.5"
Ar Entry: Door injection
Regas type: N2/1000 sccm
Shield type: (2) Shields
Shield treatment: SS Plasma spray
Darkspace: 0.062"
Backplane: Non-contact single zone
Chamber 3:
Aluminium (AlCu)
Process kit type: Al (SPA-10)
Target type: Single piece
Cathode type: SPA-10
Power supply: 20 kW
Tap setting: 2
T/S Spacing, 2.0"
Ar Entry: Door injection
Shield type: (2) Shields
Shield treatment: Stainless steel
Darkspace: 0.062"
Backplane: Non-contact single zone
Chamber 4:
Molybdenum (Mo)
Process kit type: Mo (RMX-10)
Target type: Solder bond
Cathode type: RMX-10
Power supply: 10 kW
Tap setting: 2
T/S Spacing, 2.5"
Ar Entry: Door injection
Shield type: (2) Shield s
Shield treatment: SS Plasma spray
Darkspace: 0.062"
Backplane: Non-contact single zone
Standard chamber configuration:
8F Cryo pump
MKS Mass flow controllers
RGA Valve set: V4 Conflat
(3) Position gate valves
Non-contact backplane heaters
Frontplane: S/F Vent
Pod shields
Mainframe options:
Wafer holders with ceramic latches
Edge exclusion: 1.5 mm
Laminar blowers
Filters
SECS/GEM Communication
Wafer mapping control
Clamp rings:
Full face
Stainless steel
Facilities options:
Line frequency: 208 V
Line voltage: 60 Hz
Power rack cable length: 30 ft
Cryo compressor lines: 30 ft
Bottom feed utility lines
Other options:
Manuals
OEM Controller
Alignment tools
System shields: ICP, Ti, AICu, Mo
(5) Clamp ring wafer holder assemblies
Bell jar assemble.
MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV est un équipement de pulvérisation entièrement automatisé utilisé en sciences des matériaux. Il est conçu pour des applications in situ incluant le dépôt de couches minces, la modification de surface et la fabrication de nano-architecture. Ce système est équipé d'un pistolet à pulvérisation avancée qui permet un contrôle précis de la vitesse de dépôt, du profil et de l'épaisseur des films. Il est également capable de multiples sections de procédé, ce qui permet le dépôt parallèle de différents matériaux sur différentes zones du substrat. MRC Eclipse Mark IV utilise une alimentation RF/DC de haute puissance avec une gamme de fréquences de 0 à 13,56 MHz. L'unité a une plage de puissance disponible de 1 à 1500 W. Les zones de pulvérisation multiples permettent de déposer sur différentes parties du substrat avec des flux différents pour chaque zone. Le pistolet pulvérisateur utilise une source magnétron cylindrique et est équipé d'un bouclier de collision pour empêcher l'accumulation d'ions autour de la source. Une unité de verrouillage de charge est pour le transfert de substrat et permet un traitement rapide de grands substrats. La machine est programmée avec un contrôleur logique programmable de précision (PLC) pour contrôler le mouvement et le fonctionnement du pistolet de pulvérisation. Le PLC peut être programmé pour optimiser le contrôle du processus et donne à l'utilisateur une plate-forme efficace pour acquérir rapidement les caractéristiques de film désirées. En outre, l'outil dispose d'une chambre à vide avec un rugissement et une pompe turbo moléculaire qui permet un vide ultra-élevé et un fonctionnement facile. TEL Eclipse Mark IV dispose également de matériel avancé avec des systèmes de surveillance et de contrôle avancés. Ces systèmes permettent de contrôler la pression, la température et la puissance du processus de dépôt en temps réel. Ceci permet un contrôle précis des paramètres de dépôt pour fournir un procédé répétable et un film fiable. L'actif dispose également d'une interface utilisateur tactile qui permet un fonctionnement intuitif et le contrôle du modèle. Dans l'ensemble, Eclipse Mark IV est un équipement de pulvérisation ultramoderne conçu pour un large éventail d'applications de dépôt en couches minces. Il dispose de systèmes de commande de mouvement très précis, de systèmes de surveillance et de contrôle avancés, et d'une interface conviviale, ce qui le rend idéal pour la recherche et le développement de matériaux en couches minces.
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