Occasion NEXX SYSTEMS Nimbus XP #9372726 à vendre en France

ID: 9372726
PVD Sputtering system With NEXX 003 Control panel Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 150 A, 3 Phase.
NEXX SYSTEMS Nimbus XP Sputtering Equipment est une plate-forme de dépôt de pulvérisation intégrée conçue pour la recherche et le développement de procédés à couches minces. Le système utilise une chambre à vide et une source de plasma à haute énergie pour déposer une gamme de matériaux sur un substrat placé dans la chambre à vide. Ceci permet à l'utilisateur d'appliquer des couches de couches minces d'épaisseurs et d'uniformité diverses, ainsi que des taux de dépôt pour un certain nombre de matériaux dont des métaux, des semi-conducteurs et des isolants. L'unité est capable d'échantillons de petite surface ainsi que de plaquettes de taille de production jusqu'à 8 ". Nimbus XP utilise une alimentation en rotation sous vide et un mécanisme de levage pour assurer l'uniformité des plus grandes zones déposées. Ce mécanisme a été conçu avec un fond incliné afin de minimiser l'accumulation de contamination. De plus, la lévitation magnétique du plateau tourne entraîne de faibles frottements et des taux de dépôt très uniformes. La machine utilise également un transfert sous vide qui permet de placer des échantillons dans la chambre sans introduction de contamination. Le contrôleur utilise une conception intuitive axée sur le menu et est intégré à tous les modules logiciels nécessaires à l'automatisation. Cela inclut des logiciels pour l'optimisation de la surface cible, la mesure du flux de particules, l'enregistrement des données, le contrôle des processus et le suivi des paramètres. Pour le fonctionnement manuel, le contrôleur dispose d'un écran tactile écran LCD avec des commutateurs rotatifs à microprocesseur et des éléments de menu. En outre, l'outil comporte deux sources de plasma séparées et imbriquées, chacune pouvant être ajustée avec précision sur les paramètres corrects de dépôt du substrat. La performance de l'actif est étroitement surveillée par un modèle sophistiqué de surveillance du vide et en chambre. Cela comprend la température, le débit et les espèces de gaz pour assurer des conditions de processus optimales. En outre, l'équipement dispose d'une source d'ions intégrée et a la capacité de mesurer le flux d'ions positifs dans la chambre à vide. Cela permet aux utilisateurs de surveiller rapidement et avec précision le processus interne. Afin de reproduire avec précision les procédés de dépôt de couches minces, le système comporte également un certain nombre d'emboîtements de sécurité. Cela comprend les embouts automatisés de défaut de sol, la ventilation intérieure de l'échappement de l'armoire, ainsi que le blindage de protection câblé. En outre, l'unité dispose d'un mode d'économie d'énergie intégré, permettant aux utilisateurs d'économiser jusqu'à 50 % sur leurs coûts d'énergie. Globalement, NEXX SYSTEMS Nimbus XP Sputtering Machine est une plate-forme de pointe qui fournit aux utilisateurs une solution intégrée pour le dépôt précis et uniforme de couches minces sur des substrats. Avec une multitude de fonctions de sécurité, un contrôleur très intuitif et des capacités de fonctionnement automatisé, Nimbus XP est la solution parfaite pour le dépôt précis et contrôlé de couches minces.
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