Occasion NEXX / TEL / TOKYO ELECTRON APOLLO XP #9137393 à vendre en France

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ID: 9137393
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2014
PVD System configured for manual tray processing, 6" Manual front end Load lock degas with (1) roughing pump Deposition chamber capacity for 5 magnetrons lOkW power supply (2) 8" Cryo pumps M4 Magnetron for Au, Ti, TiW and Pt Ni Loop Magnetron for Ni SECS/GEM 2014 vintage.
NEXX/TEL/TOKYO ELECTRON APOLLO XP est un équipement de pulvérisation thermique conçu pour déposer des couches minces de matériau sur un substrat. Le système est constitué d'une chambre à vide avec une unité de pompage, une source du matériau de dépôt des pulvérisateurs et un porte-substrat. La machine de pompage est conçue pour évacuer tout l'air de la chambre à un niveau de vide désiré pour préparer l'environnement au processus de dépôt des pulvérisateurs. Une pompe turbo moléculaire à deux étages est utilisée pour s'assurer que le niveau de vide désiré est atteint. Une fois évacuée, la chambre est ensuite purgée à l'azote gazeux pour fournir un environnement propre et stable au processus de dépôt. La source de matériau de dépôt des pulvérisateurs est typiquement une mince couche de métal ou d'alliage, qui est ensuite vaporisée et déposée sur le substrat. La source de matière est typiquement contenue à l'intérieur d'un creuset à l'intérieur de la chambre, qui est ensuite chauffée à haute température pour vaporiser la matière. Une fois vaporisé, le matériau est ensuite éjecté du creuset par une source magnétron, dans laquelle un courant électrique est utilisé pour créer un champ magnétique. Ce champ magnétique éjecte le matériau vaporisé du creuset, le faisant vaporiser à travers le substrat. Le dernier composant de l'outil est le porte-substrat, qui sert à maintenir le substrat en place et à permettre un dépôt précis et cohérent du matériau. Le substrat est typiquement maintenu en place par un gabarit en acier inoxydable ou en cuivre. Ce gabarit est conçu pour être réglable pour recevoir une variété de substrats, et aussi faciliter le dépôt précis du matériau. Ces trois composants forment l'actif TEL APOLLO XP, et lorsqu'ils sont combinés fournissent un moyen efficace et fiable de dépôt de matière sur un substrat. Le modèle est capable de déposer des couches minces en métal et en alliage avec un haut degré de précision et de répétabilité. Cela en fait un outil idéal pour une grande variété d'applications, y compris le revêtement optique, le traitement des semi-conducteurs et la fabrication de dispositifs médicaux.
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