Occasion OERLIKON / UNAXIS Clusterline 200 #293802334 à vendre en France

OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200 est un équipement de pulvérisation hautement avancé conçu pour le dépôt de couches minces dans diverses industries telles que les revêtements semi-conducteurs, solaires et optiques. Ce système de pulvérisation utilise une architecture d'outils de grappes, permettant un débit élevé et une grande flexibilité dans les processus de dépôt. L'UNAXIS Clusterline 200 est réputée pour son contrôle précis de l'épaisseur du film, son homogénéité et sa reproductibilité, ce qui en fait un choix idéal pour les environnements de production à haut volume. Au cœur de l'unité OERLIKON Clusterline 200 se trouvent les multiples chambres de processus intégrées dans une plateforme unique. Cette architecture permet un traitement parallèle de plusieurs substrats, améliorant considérablement la productivité et l'efficacité. Chaque chambre de procédé est équipée de sa propre cible de pulvérisation indépendante et d'alimentation électrique, permettant le dépôt simultané ou séquentiel de matériaux différents sur les substrats. La machine dispose également de chambres de verrouillage de charge pour le chargement et le déchargement du substrat, assurant un temps d'arrêt minimal entre les opérations de dépôt. La clusterline 200 est équipée de sources de pulvérisation ultramodernes, telles que la pulvérisation magnétron et la pulvérisation réactive, offrant une large gamme d'options de dépôt pour divers matériaux et propriétés du film. Les cibles de pulvérisation sont généralement réalisées à partir de matériaux tels que les métaux, les oxydes et les nitrures, offrant une polyvalence dans les applications de dépôt en couches minces. L'outil peut atteindre des taux de dépôt élevés et un contrôle précis de l'épaisseur, de la composition et de la structure du film, répondant aux exigences strictes des technologies modernes de couches minces. En outre, OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200 intègre des fonctions avancées de contrôle des processus, telles que la surveillance en temps réel de paramètres clés tels que le taux de dépôt, la consommation d'énergie et les débits de gaz. Ces capacités permettent aux opérateurs d'optimiser le processus de dépôt, ce qui permet d'obtenir des couches minces de haute qualité avec une excellente homogénéité et répétabilité. L'actif offre également un logiciel de gestion des recettes qui permet aux utilisateurs de stocker et de rappeler les paramètres de processus pour différentes recettes de dépôt, rationalisant la configuration et le fonctionnement du modèle. En ce qui concerne la manipulation des substrats, UNAXIS Clusterline 200 est compatible avec les différentes tailles et types de substrats, y compris les plaquettes, les panneaux de verre et les substrats flexibles. L'équipement peut accueillir des tailles de substrat standard et personnalisé, offrant une flexibilité pour diverses exigences de production. En outre, OERLIKON Clusterline 200 est équipé de capacités avancées de chauffage et de refroidissement des substrats, permettant un contrôle précis de la température pendant le processus de dépôt afin d'optimiser les propriétés du film et l'adhérence. Clusterline 200 système de pulvérisation est conçu avec un accent sur la haute fiabilité, la facilité d'entretien, et la sécurité. L'unité dispose de pompes à vide robustes, de diagnostics plasma avancés et de routines de nettoyage automatisées pour garantir des performances optimales et un temps de disponibilité. Les tâches d'entretien telles que le remplacement des cibles, le nettoyage des chambres et l'étalonnage des machines sont conçues pour être conviviales et minimiser les temps d'arrêt, maximisant la productivité de l'outil. En conclusion, OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200 est un atout de pulvérisation polyvalent et avancé qui offre des capacités de dépôt de couches minces à haut débit pour un large éventail d'applications. Avec son architecture d'outils de cluster, ses sources de pulvérisation perfectionnées, son contrôle précis des processus et ses capacités de manipulation des substrats, UNAXIS Clusterline 200 est un choix idéal pour fabriquer des films minces de haute qualité dans des environnements de production exigeant une productivité et une fiabilité élevées.