Occasion OERLIKON / UNAXIS Clusterline 300 #293778340 à vendre en France
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ID: 293778340
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Sputtering system, 12"
2006 vintage.
OERLIKON/UNAXIS Clusterline 300 est un équipement de pulvérisation ultramoderne conçu pour le dépôt de couches minces de haute précision dans les industries des semi-conducteurs et des matériaux avancés. Cet outil de pointe exploite les dernières avancées technologiques pour offrir des performances inégalées et une polyvalence dans les processus de pulvérisation. Au cœur du système UNAXIS Clusterline 300 se trouve une architecture d'outils de cluster qui offre une flexibilité et une évolutivité exceptionnelles. L'unité est composée de plusieurs chambres de processus qui sont interconnectées à travers un module central de transfert, permettant un transfert continu des substrats entre les différentes étapes de processus. Cette conception modulaire permet aux utilisateurs de personnaliser la configuration de la machine pour répondre à des exigences spécifiques et d'augmenter facilement la capacité de l'outil au besoin. Une des caractéristiques clés de l'outil OERLIKON Clusterline 300 est ses capacités de pulvérisation avancée. L'actif est équipé d'une gamme de sources de pulvérisation, y compris la pulvérisation magnétron et la pulvérisation réactive, permettant le dépôt d'une grande variété de matériaux avec une grande uniformité et reproductibilité. Ces sources de pulvérisation peuvent être configurées dans différentes géométries pour s'adapter à différentes tailles et formes de substrat, offrant aux utilisateurs la flexibilité de déposer des films minces sur une gamme variée de substrats. Le modèle Clusterline 300 intègre également des technologies avancées de contrôle des procédés pour assurer un contrôle précis du processus de dépôt. L'équipement est équipé de systèmes de surveillance et de rétroaction en temps réel qui surveillent en permanence les paramètres clés du processus tels que les débits de gaz, la puissance de pulvérisation et la température du substrat. Cette rétroaction en temps réel permet aux utilisateurs d'optimiser les conditions de traitement à la volée, d'où une qualité de film et des performances supérieures. En outre, le système Clusterline 300 d'OERLIKON/UNAXIS dispose d'une interface conviviale qui permet une programmation et un fonctionnement faciles de l'unité. L'interface logicielle intuitive permet aux utilisateurs de contrôler pleinement les paramètres du processus et la gestion des recettes, ce qui facilite la mise en place et l'exécution de processus de dépôt complexes. En outre, la machine est équipée de dispositifs de sécurité avancés pour protéger les opérateurs et assurer un fonctionnement fiable et cohérent. En plus de ses capacités de pulvérisation, l'outil Clusterline 300 de l'UNAXIS peut être encore amélioré avec des modules de processus supplémentaires pour des fonctions telles que le nettoyage des substrats, le prétraitement et la surveillance in situ. Ces modules optionnels peuvent être intégrés de manière transparente dans l'architecture de l'outil, permettant aux utilisateurs de créer une solution complète de dépôt de couches minces adaptée à leurs besoins spécifiques. Dans l'ensemble, OERLIKON Clusterline 300 est un atout de pointe qui offre des performances inégalées, la polyvalence et la fiabilité pour une large gamme d'applications de dépôt de couches minces. Grâce à sa technologie de pointe, à sa conception modulaire et à son interface conviviale, le modèle Clusterline 300 est un choix idéal pour les fabricants de semi-conducteurs, les établissements de recherche et les développeurs de matériaux avancés à la recherche d'une solution de dépôt de couches minces de haute précision et flexible.
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