Occasion PERKIN ELMER 2400 #9272966 à vendre en France

ID: 9272966
Sputtering system Round targets, 8" RF Diode cathodes RF Generator Mechanical pump LEYBOLD 450 Turbo pump.
PERKIN ELMER 2400 est un équipement avancé de dépôt en phase vapeur (PVD) conçu pour pulvériser uniformément des couches minces sur de grands substrats ou plusieurs petits échantillons. Ce système est une solution fiable et rentable conçue pour répondre aux besoins des laboratoires de recherche et de production. 2400 pulvérisateur est basé sur la technologie de magnétron déséquilibré en courant continu, qui garantit des propriétés physiques et électriques supérieures des films minces avec une excellente uniformité de surface. Il offre des paramètres de dépôt complets tels que le contrôle de la température, les rapports de concentration élevés et la fréquence radio augmente la pulvérisation. La machine se compose d'une chambre de procédé, d'un manipulateur à six axes pour le substrat, d'une source groupée de magnétrons, d'une source de matériau de dépôt, d'un outil de refroidissement, de dispositifs de métrologie embarqués, d'un sous-système sous vide et d'une console avec des interfaces logicielles et des hmi conviviaux. L'actif permet le dépôt de divers matériaux en couches minces, dont des métaux précieux et non précieux, des alliages, des oxydes et des diélectriques, dans une large gamme d'épaisseurs. Il permet de sélectionner de multiples formes et tailles de substrat, de petits composants à de très grands substrats. Il offre une grande uniformité de surface et des surfaces lisses, ainsi qu'une densité de puissance et une épaisseur de dépôt de matériau uniformes. Le modèle fournit également des dépôts à haut débit et rentables avec un faible taux de production par unité de coût. PERKIN ELMER 2400 offre des capacités de contrôle et de surveillance supérieures. Il est capable de contrôler l'épaisseur du film déposé, ce qui est essentiel pour contrôler la qualité du matériau. L'équipement peut également surveiller la composition du matériau déposé, permettant un contrôle complet du procédé de dépôt. En outre, le système offre des contrôles conviviaux, y compris des paramètres tels que l'épaisseur du film, l'uniformité, la température, l'entrée RF, et la vitesse de gravure. L'unité peut également être utilisée pour contrôler automatiquement la vitesse de dépôt et l'épaisseur du film, ainsi que pour ajuster la vitesse de dépôt et la température du substrat. Dans l'ensemble, 2400 pulvérisateurs offrent des performances supérieures et des dépôts de couches minces rentables pour diverses applications. Il offre une homogénéité supérieure des couches minces et une adhérence supérieure, ce qui en fait une solution hautement fiable et rentable pour les installations de recherche et de production.
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