Occasion PERKIN ELMER 3300 ICP XL #164671 à vendre en France

ID: 164671
Spectrometer Includes: 200-240 VAC Operation Wide Wavelength 167-782 nm Computer with Winlab32 ICP Software Users manuals Axial Torch NesLab Chiller CFT-33.
PERKIN ELMER 3300 ICP XL est un équipement de dépôt de pulvérisateurs qui utilise un plasma inductif couplé (ICP) comme source d'ions pour le revêtement des pulvérisateurs de surface. Le système se compose d'une chambre de dépôt individuelle, d'une chambre à vide, d'une alimentation magnétron, d'une alimentation RF et d'une alimentation ICP. L'unité fonctionne selon un procédé de dépôt par pulvérisation dans lequel un matériau atomisé est regroupé à la surface d'un substrat. Ce procédé implique une chambre intérieure dans laquelle est générée une onde radiofréquence de forte puissance. Le matériau pulvérisant est alors soumis à un champ électrique intense à l'aide d'un magnétron, qui ionise le matériau avant d'être déposé à la surface du substrat. Ce procédé est connu sous le nom de placage ionique et est souvent utilisé dans le domaine des semi-conducteurs comme moyen de protéger les composants délicats de l'oxydation et de la contamination. 3300 La machine à pulvériser XL du PCI est composée d'une chambre de dépôt individuelle et d'une chambre à vide, toutes deux reliées à la source du PCI. La source du PIC génère un plasma qui est utilisé pour créer une atmosphère très chargée et un champ électrique puissant dans la chambre de dépôt. Ce champ est nécessaire pour extraire du matériau de la cible et dans le substrat. Le matériau ionisé est ensuite accéléré vers le substrat afin de créer un film mince et uniforme à sa surface. Ce procédé de dépôt peut être utilisé pour divers matériaux, dont des métaux, des céramiques et des polymères. Quant aux paramètres de dépôt, PERKIN ELMER 3300 ICP XL est équipé d'une large gamme de fonctionnalités. Son alimentation magnétron est capable de débiter jusqu'à 500 watts, l'alimentation RF pouvant générer jusqu'à 200 watts de puissance RF. De plus, l'outil peut fonctionner à des pressions allant de 1 mT à 10 mT, avec une vitesse de dépôt allant jusqu'à 0,13 nm/seconde. Enfin, l'actif est livré avec une interface utilisateur graphique intuitive qui permet un contrôle fin des paramètres de dépôt et de pulvérisation. Cette interface permet également l'intégration de fonctions supplémentaires, telles que le contrôle des processus et la collecte de données, ce qui améliore encore les capacités du modèle. Dans l'ensemble, 3300 ICP XL est un équipement de pulvérisation puissant et très précis qui convient à une variété d'applications de pulvérisation.
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