Occasion PERKIN ELMER 4400 #293754989 à vendre en France

ID: 293754989
Sputtering system (4) Targets Etcher and bias deposition Cryo pump Chamber with load lock turbo Auto gas control Digital target and substrate bias display RF Generator: 2 kW Manual.
PERKIN ELMER 4400 est un outil puissant et polyvalent utilisé dans le laboratoire d'analyse. Il est capable de déposer des couches minces de matière sur des substrats par le procédé de pulvérisation ou de pulvérisation réactive qui prépare le substrat à d'autres techniques d'analyse. 4400 est un système modulaire, offrant flexibilité et évolutivité. Il comprend une cathode, des supports de substrat et une chambre à vide. Les systèmes de pulvérisation, comme PERKIN ELMER 4400, reconstituent le matériau à la surface d'un substrat dans une chambre à vide en ionisant un matériau cible et en pulvérisant les atomes sur le substrat. Ce procédé est caractérisé par le fait que le matériau cible est vaporisé dans le procédé de pulvérisation puis condensé sur la surface du substrat sous la forme d'un film mince. 4400 pulvérisateurs de PERKIN ELMER abrite jusqu'à quatre cathodes hautes performances et quatre creusets dans la chambre à vide. L'application spécifique caractérise le type de cathode utilisé, les exigences de source et de puissance RF, ainsi que la pression ultime de la chambre et la vitesse de pompage. PERKIN ELMER 4400 est également équipé d'une machine de régulation de température automatisée, fournissant une régulation et une mesure de température de précision pour assurer l'uniformité du dépôt des couches minces. Ceci est essentiel pour contrôler la qualité et les propriétés d'un film mince. L'outil de régulation de température peut mesurer et surveiller avec précision le processus de -50 ° C à + 500 ° C 4400 est en outre équipé d'une ligne de commande intégrée qui permet de définir, de contrôler et de surveiller les sources et programmes cibles individuels avec une large gamme de paramètres tels que la vitesse de dépôt, la capacité de charge et de déchargement, et les options de chauffage des substrats. Cela garantit que le processus de dépôt des couches minces est terminé de manière efficace et efficiente. PERKIN ELMER 4400 produit un dépôt de couche mince supérieur et a été conçu pour fournir une performance maximale. C'est un modèle idéal pour la recherche en matériaux, physique et médicale et offre aux chercheurs la flexibilité et la polyvalence dont ils ont besoin pour mener à bien un processus de pulvérisation complexe. L'équipement de contrôle automatisé permet un dépôt rapide et précis des couches minces, tout en permettant aux utilisateurs de maximiser leur débit et de réduire le temps de traitement.
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