Occasion PERKIN ELMER 4400 #9026902 à vendre en France

PERKIN ELMER 4400 est un puissant équipement de pulvérisation largement utilisé dans les laboratoires industriels et les installations de production. Il est conçu pour le dépôt de couches minces sur de grands substrats tels que des plaquettes semi-conductrices. Le système utilise plusieurs composants de systèmes à vide tels qu'une chambre de pulvérisation et un canon à faisceau d'électrons pour former une épaisseur uniforme de couche de film à quelques nanomètres près. La chambre de l'unité est constituée de bocaux en acier inoxydable avec optique à flotteur Glomex. Ces optiques à flotteur assurent un piégeage efficace des particules sub-microns et un blindage magnétique pour assurer l'homogénéité des conditions de vide et réduire la contamination par les impuretés. La chambre de pulvérisation est remplie de sources d'argon de haute pureté ou d'autres gaz pour fournir une atmosphère basse pression pour le dépôt cible. Au cœur du processus de pulvérisation est le canon à faisceau d'électrons qui crée le flux d'électrons énergétiques pour bombarder la cible de pulvérisation et l'extraction du matériau de la couche de film de la cible. Le canon à électrons fonctionne à l'aide d'un contrôleur électronique de faisceau et d'une bobine de pré-focalisation pour maintenir un faisceau focalisé. Le pistolet est réglable pour accueillir différentes tailles de substrat. Les cibles de la source sont généralement constituées de métaux purs ou d'alliages tels que le titane, le chrome, le cobalt, le nickel, etc. La vitesse de dépôt est habituellement de 1-2 nm/s et peut être ajustée en fonction de la taille et de la forme de la cible et de la vitesse du processus de dépôt. La vitesse de rotation cible peut également être ajustée pour optimiser la vitesse de dépôt du film. La machine dispose également d'un contrôle de température global qui permet de maintenir la température du substrat à un niveau souhaité. L'outil comprend également un actif de diagnostic in situ avec des lasers accordables et un analyseur d'énergie. Ceci permet de suivre l'avancement du processus de dépôt de film, en s'assurant que les couches de film désirées sont déposées de façon homogène sur le substrat. Le modèle offre également des fonctionnalités telles que la couverture des étapes et le contrôle de la directionnalité pour assurer l'uniformité et l'intégrité des couches de film. En résumé, 4400 est un équipement puissant et polyvalent de pulvérisation pour le dépôt de couches minces pour diverses applications. Sa conception assure une répartition uniforme de la couche de film déposée, ce qui fait du système un choix idéal pour une variété de procédés de dépôt complexes.