Occasion PERKIN ELMER 4450 #153442 à vendre en France
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ID: 153442
Taille de la plaquette: 3"-8"
Batch type sputtering system, 3"-8"
(3) Delta targets
RF Etch
Turbo pump / Backing pump on loadlock side
Torr-8 cryo pump on chamber side
DC / RF Power supply.
PERKIN ELMER 4450 est un équipement de dépôt pulvérisateur utilisé pour le dépôt physique en phase vapeur (PVD) de matériaux dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est un système modulaire avec deux chambres de pulvérisation avec des capacités de chargement et de déchargement clés en main, ainsi que des ensembles porte-substrat dédiés. 4450 est une unité de pulvérisation entièrement automatisée contrôlée par une interface tactile de surveillance des processus qui affiche toutes les informations de la machine. Le chargement et le déchargement robotique permettent des transferts de substrat rapides et cohérents. Cet outil comprend également un cycle de nettoyage et d'entretien automatisé pour assurer un fonctionnement fiable et reproductible. PERKIN ELMER 4450 est équipé de cinq sources de pulvérisation - un canon à faisceau d'électrons, trois canons de pulvérisation en magnétoplasme planaire et une source verticale de magnétoplasme. Le canon à faisceau d'électrons pulvérise des dépôts de couches minces très uniformes, tandis que les sources de magnétoplasme sont conçues pour des applications à plus grande surface et plus épaisses. La taille de la tache pour le canon à électrons est de 5 mm, ce qui permet un dépôt très précis des caractéristiques à haute résolution. 4450 utilise des technologies avancées de dépôt par pulvérisation et de gravure dynamique par faisceau d'ions. Cela permet d'appliquer des motifs de stratification complexes et précis sur des substrats tels que des plaquettes, des puces et des planches. Les températures du substrat sont réglables de la température ambiante jusqu'à 400 ° C, ce qui permet un dépôt de matériaux variés. Divers gaz sont utilisés dans le processus de pulvérisation, comme l'argon, l'oxygène et l'azote. Ils sont chargés et chauffés dans la chambre, puis accélérés vers le substrat sous forme d'ions. Lorsque les ions frappent le substrat, ils provoquent la pulvérisation ou le soufflage du matériau cible hors du substrat. Ce procédé de dépôt permet d'accumuler un film mince en surface. PERKIN ELMER 4450 est un atout de pulvérisation fiable et efficace adapté à une variété d'applications PVD. Ses processus automatisés, ses capacités de dépôt précises et son fonctionnement fiable en font un ajout précieux à une variété d'applications industrielles et de recherche.
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