Occasion PERKIN ELMER 4450 #9173056 à vendre en France

ID: 9173056
Taille de la plaquette: 6"
Sputtering system, 6" Load lock system (4) 8” Target head assemblies, bonded MKS Gas control with MKS MFC and CMT Pallet (7) Positions GP 303 Ion gauge controller With dual convectron & IG tubes VAT throttling gate valve Vexta precision table motor and controller AE Pinnacle 6 kw RF power supply AE MDX-10 DC power supply, 10 kW ENI RF Generator with matching unit for etch RGA (Residual Gas Analyzer) 21 CFM Mechanical pump CT-8 Cryo and SC compressor.
PERKIN ELMER 4450 est un équipement de pulvérisation de haute qualité adapté au dépôt de films épais de divers matériaux sur une grande variété de substrats. Le système est conçu pour fournir des couches de matériau ultra-lisses et uniformes sur un substrat donné, ainsi que d'offrir une grande variété de choix de matériaux de pulvérisation. 4450 est conçu pour maximiser la productivité et minimiser les temps d'arrêt, en offrant un accès facile aux cibles de pulvérisation, un diélectrique de refroidissement haute performance, et un contrôle précis de la pression, de la puissance et du temps de processus. L'unité dispose d'une chambre à double cible, non évacuante, qui offre à l'utilisateur une grande flexibilité pour les procédés complexes de pulvérisation. Il a une plage de vide de 10-6 mbar avec une vitesse de pulvérisation maximale de 500 Å/s et une pression de base de 6 × 10-8 mbar. Les cibles de pulvérisation sont montées dans des canons à électrons qui sont facilement enlevés et remplacés pour un accès rapide à différents matériaux de pulvérisation. La machine est équipée d'un contrôleur d'étage de mouvement de haute précision qui, lorsqu'il est couplé avec la configuration à double cible, permet une uniformité de l'épaisseur de l'échantillon sur de larges surfaces. PERKIN ELMER 4450 intègre une logique de commande avancée dans sa conception, qui offre un haut degré de flexibilité et de contrôle sur la procédure de pulvérisation. Il comporte une fonction rampe/rampe qui est particulièrement utile lors de la pulvérisation de films plus épais sur de plus grands substrats. L'utilisateur est en mesure de programmer les paramètres de processus souhaités, y compris la puissance, la pression et la durée, grâce à une interface utilisateur graphique facile à utiliser. Cela permet un contrôle très précis du processus, assurant ainsi des résultats de revêtement précis. L'outil est équipé d'un diélectrique de refroidissement entièrement intégré pour maintenir les températures cible et source lors des opérations de pulvérisation. Le diélectrique est conçu pour maintenir une température basse lors des opérations de pulvérisation, ce qui est essentiel pour minimiser l'évaporation des matériaux cibles et la dégradation du plasma. Il contribue également à maintenir un processus de pulvérisation uniforme et une couverture de substrat uniforme. 4450 est un excellent choix pour un large éventail d'applications, y compris le dépôt de matériaux pour les dispositifs MEMS, semi-conducteurs et photovoltaïques. Avec sa logique de commande avancée et son diélectrique de refroidissement intégré, l'actif assure des films très homogènes et épais avec un minimum d'effort de la part de l'utilisateur.
Il n'y a pas encore de critiques