Occasion PERKIN ELMER 4450 #9262871 à vendre en France
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ID: 9262871
PVD Sputtering system
DELTA Target
Cryo compressor
Vacuum pump
Vacuum gauge
Gallium Arsenide (GaAs)
Glass wafers / Solar cell
ADVANCED ENERGY RFX 6000 RF Generator
ADVANCED ENERGY DC Power supply
Temperature controller
Silicon wafer, 4"-8"
Panel missing.
PERKIN ELMER 4450 est un équipement de pulvérisation à cible poly-cristalline haute performance conçu pour une large gamme d'applications de pulvérisation et de dépôt. Il dispose d'un environnement de processus de pulvérisation par ordinateur de contrôle avancé qui offre une flexibilité pour le contrôle de processus avancé et la surveillance de la vitesse de pulvérisation. Le système a été conçu pour fournir un large éventail de stratégies de pulvérisation, permettant le dépôt de films uniformes de haute qualité tels que des oxydes métalliques, du SiO2 et des films très conducteurs. L'unité fonctionne dans une large gamme de pressions, de la dépression à la dépression modérée, permettant le dépôt d'échantillons de grande taille et structurés. Il est équipé d'une grande chambre cible avec un ensemble cathodique rotatif qui permet la pulvérisation de plus de 4500 cibles individuelles. La machine est équipée d'un certain nombre de paramètres contrôlés par ordinateur tels que la pression de pulvérisation, la température de dépôt, la disposition des cibles et l'ouverture de la cible. Il permet également un contrôle précis de la vitesse de pulvérisation et de l'homogénéité du film sur toute la surface du substrat. L'outil est également adapté à la gravure par pulvérisation et à des taux d'uniformité élevés. Il est doté d'un générateur de champ magnétique mono-étage à 3 axes avec un maximum de 150 mT, ce qui assure un profil de pulvérisation homogène et une vitesse de dépôt uniforme. Le contrôleur de débit de pulvérisation, opéré par l'intermédiaire d'un microprocesseur PLC, assure un contrôle précis des débits de dépôt et réduit le temps de traitement. L'actif dispose également d'un certain nombre de fonctionnalités conviviales, y compris une interface graphique en ligne, qui permet la télécommande et la surveillance du processus de pulvérisation. Le modèle est équipé d'un spectromètre d'émission optique, d'un micro-balancier, d'une source de pulvérisation magnétron, d'une source d'ions argon, d'un thermocouple, d'un évaporateur à faisceau E et d'une pompe à vide. Cet équipement comprend une chambre polyvalente avec un système de vide avancé qui fournit un environnement propre et peu polluant. L'unité est refroidie par l'utilisation de systèmes de refroidissement liquide économes en énergie, qui maintiennent la chambre de pulvérisation à une température constante pour le procédé désiré. En résumé, 4450 est une machine à pulvériser moderne et performante conçue pour diverses applications de pulvérisation et de dépôt. Cet outil permet un contrôle facile du processus, un excellent contrôle du débit et des films uniformes. L'atout comprend également un modèle de vide fiable et un certain nombre de fonctionnalités conviviales qui le rendent adapté à une grande variété de processus.
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