Occasion PERKIN ELMER ICP 2000DV #9231262 à vendre en France

PERKIN ELMER ICP 2000DV est un équipement professionnel conçu pour le dépôt physique en phase vapeur de couches minces pour la recherche et les applications industrielles. Ce système de pulvérisation perfectionné est équipé d'une unité de manipulation à 4 axes pour un dépôt uniforme et d'une chambre à vide avec grande porte d'accès pour un chargement et un déchargement faciles. Les composants principaux de cette machine comprennent une cathode de pulvérisation magnétron, un porte-substrat, un contrôleur de manipulation du substrat, une alimentation RF et un outil de pompage à vide. L'actif est capable de produire des couches minces extrêmement uniformes d'environ 0,2 à 100 nm d'épaisseur. La cathode de pulvérisation magnétron utilise de l'argon ou d'autres gaz inertes pour générer un plasma pour bombarder un matériau cible avec des ions positifs ou négatifs. Le matériau cible est ensuite pulvérisé sur le substrat à des vitesses élevées. Le porte-substrat est chargé de manipuler le substrat pour assurer un dépôt uniforme, et il est apte à tourner, basculer et faire tourner le substrat. Le contrôleur permet aux utilisateurs de programmer des paramètres tels que la vitesse de dépôt, l'uniformité et la puissance du processus. L'alimentation RF est chargée de fournir les signaux haute tension et basse fréquence nécessaires pour des débits de pulvérisation élevés. Il est capable de fournir un contrôle précis de la puissance avec des paramètres de processus stables et répétables. Le modèle de pompage à vide élevé est utilisé pour maintenir un niveau élevé de vide pour un dépôt efficace. Il se compose de plusieurs étages de vide et capable d'atteindre un vide ultime de < 2 x 10-6 Torr. L'équipement est également équipé de logiciels et de matériel qui permettent aux utilisateurs de surveiller et de contrôler facilement l'ensemble du processus. Le logiciel dispose de fonctionnalités de visualisation et d'enregistrement de données avec une interface graphique facile à utiliser. Le matériel comprend une commande moteur X, Y, Z et thêta pour une manipulation précise des substrats dans la chambre de dépôt, et une minuterie cumulative qui enregistre la durée totale de fonctionnement du système. PERKIN ELMER ICP 2000 DV est un choix idéal pour la recherche et les applications industrielles qui nécessitent le dépôt de couches minces avec une très grande précision. Cette unité de pulvérisation avancée est capable de produire des films minces de qualité pour diverses applications matérielles et ses fonctionnalités logicielles et matérielles conviviales facilitent la surveillance et le contrôle des paramètres de processus par les utilisateurs.