Occasion PERKIN ELMER ICP-OES 8000 #9205302 à vendre en France

PERKIN ELMER ICP-OES 8000 est un système très avancé qui permet de mesurer la quantité et la composition des éléments à l'échelle nanométrique. Cette unité utilise le procédé physico-chimique de pulvérisation pour déposer un film mince sur un substrat. Le procédé consiste à bombarder la surface du matériau avec des particules ou des atomes énergétiques afin de pulvériser une fine couche de matériau qui peut ensuite être analysée pour sa composition élémentaire. Le PIC-OES 8000 est généralement utilisé pour déposer des couches minces sur des substrats tels que le métal, le verre, les polymères, les céramiques et les matériaux semi-conducteurs. La machine à pulvériser est très précise et reproductible avec des résolutions latérales allant de 10nm à 100nm. L'outil peut déposer des films d'épaisseur différente, allant de 500 nm à 5000 nm, selon les matériaux du substrat et l'énergie des particules énergétiques utilisées. L'actif PERKIN ELMER ICP-OES 8000 est alimenté par un modèle de contrôle informatisé. Le panneau de commande interactif polyvalent offre un nombre réglable d'étapes en fonction du dépôt souhaité. L'équipement de pulvérisation est également équipé d'un détecteur de spectroscopie d'émission optique multi-canaux unique qui peut mesurer avec précision la quantité et la composition des éléments à l'échelle nanométrique. Le système de pulvérisation est également conçu pour réduire la contamination. Son fonctionnement à basse pression assure que le procédé se déroule sous vide et que les matériaux sont protégés de la contamination par des micro-organismes et d'autres particules présentes dans l'atmosphère. L'unité est également conçue pour être facile à utiliser et à entretenir. Son logiciel convivial permet aux opérateurs d'ajuster rapidement et avec précision les paramètres afin d'obtenir le taux optimal de dépôt et la composition des matériaux. Dans l'ensemble, ICP-OES 8000 pulvérisateur est un outil très avancé qui offre une résolution nanométrique et une faible contamination. Les mesures exigeantes de l'actif, associées à sa conception conviviale, en font un choix idéal pour le dépôt de couches minces sur des substrats de différents matériaux.