Occasion PLASMA SCIENCES Arc #9012320 à vendre en France

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ID: 9012320
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PLASMA SCIENCES Arc est un équipement de pulvérisation utilisé pour le dépôt de couches minces sur différents substrats. Cette technologie de dépôt de pointe utilise du gaz argon magnétiquement amélioré pour créer un procédé de pulvérisation hautement uniforme. Par rapport aux systèmes traditionnels de pulvérisation, Arc est capable de produire des films aux propriétés physiques et chimiques uniques qui conviennent à un large éventail d'applications industrielles. SCIENCES DU PLASMA Arc se compose d'une chambre, cathode et anode. La cathode est typiquement noyée à l'intérieur du réacteur tandis que l'anode est prolongée à l'extérieur de la chambre et contient une bobine de champ magnétique. L'argon ou un mélange d'argon et d'un gaz réactif est utilisé comme gaz de procédé. La bobine magnétique génère un puissant champ magnétique à l'intérieur de la chambre qui concentre l'énergie des ions argon en une petite tache très énergétique. Cette énergie accrue améliore l'efficacité des pulvérisateurs et aide à créer des films de haute qualité avec une épaisseur uniforme. Arc peut déposer des couches minces sur une variété de substrats, y compris la céramique, les métaux, les polymères organiques, les semi-conducteurs et les matériaux de verre. Les films sont déposés dans un environnement à basse température, typiquement inférieur à 30C, ce qui contribue à minimiser les effets thermiques sur le substrat. Les films réalisés avec ce système sont très conformes avec une faible contamination des particules qui les rendent idéales pour la production de semi-conducteurs et de dispositifs optiques. SCIENCES DU PLASMA Arc est capable de déposer des matériaux conducteurs et non conducteurs tels que des oxydes, des nitrures et des métaux. Arc offre plusieurs fonctionnalités supplémentaires, dont une unité de contrôle automatisé des processus, une machine intégrée de détection des points d'extrémité et des dispositifs de sécurité robustes. Cet outil avancé offre des débits de pulvérisation élevés, un dépôt de film uniforme et cohérent, et est capable de produire des films minces de haute qualité pour une variété d'applications. Son dépôt à basse température et sa compatibilité avec divers substrats en font un excellent choix pour la réalisation de dispositifs électroniques et optiques avancés.
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