Occasion PLASMA SCIENCES HRC 200 #10010 à vendre en France

PLASMA SCIENCES HRC 200 est un système de pulvérisation à haut débit polyvalent et compact capable de déposer un large éventail de matériaux pour diverses applications. Il est capable de réaliser des dépôts à haut débit avec une répétabilité et une uniformité à long terme souhaitées pour de nombreuses applications telles que les couches de tête de disque, les substrats, le MOS/MEMS et l'électronique grand public haut de gamme. HRC 200 est basé sur la technologie de pulvérisation radiale magnétron pour déposer des matériaux non magnétiques sur une variété de substrats dont l'aluminium, l'acier inoxydable, le quartz, le verre et le silicium. L'avantage de cette technologie est qu'elle permet à la fois le revêtement de grandes et petites zones et le dépôt de couches très minces et très homogènes. Le HR-200 est capable de déposer une gamme de métaux, de céramiques et d'autres matériaux tels que des oxydes d'aluminium, du chrome, du titane, du nitrure de silicium, de l'oxyde de fer et de nombreux autres composés. Il utilise également une multitude de technologies de pointe telles que le dépôt physique en phase vapeur ionisé (IPVD) et la pulvérisation magnétron à forte impulsion (HIPIMS). Sa source de plasma avancée permet le dépôt de couches extrêmement homogènes, avec une homogénéité particulièrement élevée sur de grands substrats. Le HR-200 utilise également un panneau de contrôle avancé, des systèmes de surveillance de la température et de la pression pour assurer un dépôt uniforme et répétable. Ce système est conçu pour un revêtement à faible coût sur de grands substrats avec une homogénéité supérieure. Sa faible empreinte et sa construction légère le rendent très facile à transporter et le rendent adapté à une utilisation en laboratoire ou industrielle. PLASMA SCIENCES HRC 200 est facile à utiliser et à maintenir avec une surveillance automatisée de la pression de la chambre et de la vitesse de dépôt. Il comprend également un système intégré de rotation substrat-substrat pour améliorer l'uniformité sur les grands substrats. En outre, presque toutes les opérations et conditions peuvent être surveillées et gérées à distance via la connectivité Internet. Dans l'ensemble, HRC 200 est une solution idéale pour la pulvérisation rapide de métaux et de matériaux oxydes métalliques avec une homogénéité et une répétabilité supérieures. Il offre une solution de revêtement puissante, compacte et flexible pour diverses applications. En tirant parti de ses technologies de pointe et de sa surveillance à distance, PLASMA SCIENCES HRC 200 offre des procédés de dépôt fiables et reproductibles avec une répétabilité et une uniformité exceptionnelles.