Occasion RSI / VANGUARD Sencera #9300991 à vendre en France
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ID: 9300991
In-line sputtering system
(6) Target large panels
Vacuum pump
Turbo pump
RF and DC Power supply
Qty / Make / Model / Description / Part Number
(4) / ADVANCED ENERGY / Pinnacle 3152442-102D / Generators / -
(2) / MKS / optima RPG-50Z / DC power supply / RPDG-50Z-10237
(1) / MKS / optima DCG-200Z / DC power supply / RPDG200Z-08055
(1) / ADVANCED ENERGY / MDX / 2011-000-AA / Magnetron Drive / -
(1) / ADIXEN / AD30KL / Dry pump / -
(1) / BOC EDWARDS / STP-iXA2206C / Turbomolecular turbo pumps / - / YT81-0Z-010 controller
(2) / BOC EDWARDS / STP-iXA2205CP / Turbomolecular turbo pumps / - / iPS-1200 YT63-W1-Z10 & Z00 controller
(1) / VAT / 65048-PAAP-BAS2/0001 A-1799517 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 65048-PAAP-BAS1/0002 A-973785 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 12148-PA24-AKW1/0005 A-977764 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 12148-PA24-AKW1/0006 A-97776 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / ALLEN BRADLEY / 1734 / Processors and I/O / -
(1) BROOKS AUTOMATION / MFC / Delta Series / -.
RSI/VANGUARD Sencera est un équipement de pulvérisation conçu pour des applications de dépôt et de revêtement en couches minces. Il utilise deux cathodes refroidies cryogéniquement pour évaporer du matériau des cibles cathodiques dans un environnement à vide élevé, qui est ensuite déposé sur un substrat. Le matériau évaporé est typiquement du titane, de l'aluminium, du chrome ou du fer, et le système RSI Sencera est capable de déposer jusqu'à 2 angströms par seconde. VANGUARD Sencera dispose d'un mode de pulvérisation bipolaire pour contrôler la direction et l'énergie de l'ionisation du matériau. Ce mode permet un dépôt et des revêtements uniformes, une faible spatulation et un faible redéploiement parasite. L'unité contient également des aimants internes pour contrôler l'ionisation des particules chargées et un générateur de balayage de fréquence pour assurer une couverture uniforme. La machine Sencera comprend une chambre de dépôt compacte et une pompe à vide industrielle pour créer un environnement à vide élevé. La chambre est équipée d'une électrode entourant le substrat pour cibler et piéger le matériau évaporé et mesurer la température. La température de la chambre peut être surveillée et contrôlée entre 5 et 40 degrés celsius. RSI/VANGUARD Sencera dispose d'une interface conviviale avec plusieurs modes de fonctionnement, y compris un mode prédéfini qui permet de rappeler facilement une expérience qui a donné les résultats souhaités. Un débitmètre programmable permet de déterminer avec plus de précision des paramètres de procédé de pulvérisation tels que la vitesse de dépôt. L'outil comprend également des fonctions de sécurité intégrées telles que la protection contre la surtension et les coupures de courant. Dans l'ensemble, RSI Sencera actif est un modèle de pulvérisation supérieure pour les applications de dépôt et de revêtement en couches minces. Son aimant et sa technologie de balayage de fréquence permettent une vitesse de dépôt élevée et une ionisation uniforme, tandis que son interface conviviale et son contrôle de température réglable le rendent facile à utiliser. En outre, ses caractéristiques de sécurité intégrées le rendent sûr et fiable pour des expériences reproductibles avec des résultats reproductibles.
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