Occasion SELCOS CETUS-S #293793544 à vendre en France

SELCOS CETUS-S est un équipement de pulvérisation perfectionné conçu pour le dépôt précis de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs et les applications de recherche. Ce système de pointe intègre une gamme de caractéristiques et de technologies innovantes pour permettre des procédés de pulvérisation haute performance avec une qualité et une uniformité de film exceptionnelles. Au cœur de l'unité CETUS-S se trouve une chambre à vide haute équipée de multiples cibles de pulvérisation, typiquement en métal ou en céramique. Ces cibles servent de source de matériau pour le processus de dépôt et sont pulvérisées à l'aide d'ions à haute énergie pour créer un film mince sur le substrat placé ci-dessous. La chambre est conçue pour maintenir un environnement contrôlé avec de faibles niveaux d'impuretés et d'excellents niveaux de vide pour assurer le dépôt de films de haute qualité. L'une des caractéristiques clés de la machine CETUS-S de SELCOS est sa polyvalence, qui permet aux utilisateurs de déposer un large éventail de matériaux, notamment des métaux, des oxydes, des nitrures et d'autres composés. Cette flexibilité permet la fabrication de structures multicouches complexes avec un contrôle précis de la composition, de l'épaisseur et de la morphologie. L'outil prend en charge les modes de pulvérisation à courant continu et RF, offrant aux utilisateurs la flexibilité de choisir la méthode de dépôt la plus adaptée à leurs besoins spécifiques. L'actif CETUS-S est équipé d'alimentations avancées et de générateurs RF qui permettent un contrôle précis des paramètres de pulvérisation tels que la puissance, la pression et les débits de gaz. Ces capacités permettent aux utilisateurs d'optimiser le processus de dépôt pour différents matériaux et propriétés des films, assurant une grande uniformité et reproductibilité sur de grandes zones de substrat. En outre, le modèle dispose de systèmes de surveillance et de contrôle en temps réel qui fournissent une rétroaction instantanée sur les paramètres du processus, permettant des ajustements en vol pour maintenir des conditions de dépôt optimales. En plus de ses capacités de pulvérisation, l'équipement SELCOS CETUS-S offre également des options avancées de manipulation et de chauffage des substrats pour améliorer encore le processus de dépôt des films. Le système peut accueillir différentes tailles et types de substrat, y compris des substrats plats, des plaquettes et des structures tridimensionnelles, permettant le dépôt de couches minces sur un large éventail de matériaux. Un contrôle précis de la température lors du dépôt peut être obtenu par des méthodes de chauffage résistif ou infrarouge, assurant une croissance uniforme du film et une adhésion au substrat. En outre, l'unité CETUS-S peut être équipée de fonctionnalités supplémentaires telles que des outils de surveillance in situ, des capacités de polarisation des substrats et des systèmes de commutation automatique des cibles pour améliorer le contrôle des processus et la productivité. Ces capacités avancées rendent la machine bien adaptée à un large éventail d'applications dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, photovoltaïques, MEMS/NEMS, et des domaines de recherche nécessitant un dépôt précis de couches minces. Dans l'ensemble, l'outil de pulvérisation SELCOS CETUS-S établit une nouvelle norme pour le dépôt de couches minces haute performance avec ses fonctionnalités avancées, ses capacités polyvalentes et sa qualité de film supérieure. Il offre aux utilisateurs une solution fiable et efficace pour produire des films minces de haute qualité avec une excellente uniformité et contrôle, ce qui en fait un choix idéal pour les applications de semi-conducteurs et de recherche exigeantes.