Occasion SEMICORE MRC-943 #9275511 à vendre en France

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ID: 9275511
Taille de la plaquette: 6"
Seed layer deposition system, 6" Process chamber (3) Targets: T1: TIW T2: CR T3: CU Process chamber ultimate vacuum: ≤5.0E^-6torr Loadlock ultimate vacuum: ≤5.0E^-6torr Process gas: Ar Process gas flow: 0 ~ 100sccm Process pressure control range: 0 ~ 20mtorr RF Power: 0 ~ 1500 W DC Power: 0 ~ 10 kW Film uniformity: ≤5% Spare parts included.
SEMICORE MRC-943 Sputtering Equipment est l'un des systèmes de pulvérisation les plus avancés disponibles sur le marché. C'est un système puissant, polyvalent et économique qui est idéal pour une grande variété d'applications. SEMICORE 943 utilise la technologie de compression radiale magnétique pour obtenir des débits élevés avec un dépôt uniforme et régulier de matière pulvérisée. Avec l'inclusion d'une commande de mouvement 3 axes unique pour contrôler avec précision les vitesses de pulvérisation et l'angle du matériau cible, l'unité est capable d'obtenir un dépôt très précis et précis. Le contrôleur avancé permet également la télécommande et la surveillance de la machine via Internet. MRC-943 est construit pour de grandes séries de production, avec une grande taille de pulvérisateurs pouvant accueillir des substrats jusqu'à 200mm de diamètre. Contrairement à d'autres systèmes de pulvérisation, le 943 utilise une étape de dérivation unique pour évacuer les particules produites pendant le processus de pulvérisation, ce qui permet un dépôt de meilleure qualité et des temps d'exécution plus longs. De plus, l'outil permet des changements rapides de substrat, éliminant les temps d'attente associés à d'autres systèmes de pulvérisation. Le contrôleur puissant et le logiciel avancé de SEMICORE MRC-943 permettent aux utilisateurs de programmer l'actif pour déposer du matériel pulvérisé de diverses façons. Le modèle permet facilement de créer et de graver, et le processus de pulvérisation peut être automatisé en fonction des paramètres définis par l'utilisateur. L'équipement est alimenté par une alimentation RF à haut rendement, et comprend une gamme de cibles céramiques facilement interchangeables et amovibles, offrant une large gamme de possibilités de dépôt. SEMICORE 943 dispose également de systèmes avancés de contrôle de température et de vide contrôlés par ordinateur, permettant à l'opérateur d'ajuster précisément la température de la cible et du substrat pendant le processus de dépôt pour obtenir des résultats optimaux. Dans l'ensemble, MRC-943 Sputtering System est une unité avancée parfaite pour une variété d'applications. Avec ses systèmes de contrôle puissants, son large éventail de possibilités de dépôt et ses capacités de programmation automatisée, cette machine est un excellent choix pour tout environnement de recherche ou de production.
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