Occasion SEMICORE SC9900 #9213729 à vendre en France

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ID: 9213729
Sputtering system Includes: DRESSLER RMC-1 Matching controller (2) MDX Magnatron Drives GP 307 Vacuum gauge controller MKS OEM-12B RF Generator ADVANCED ENERGY RFX 5500 RF Generator ADVANCED ENERGY Pinnacle Plus pulsed DC power supply MKS 247 4-Channel readout TERRANOVA 908A Dual capacitance diaphragm gauge SRS RGA 100 Residual gas analyzer CTI-CRYOGENICS 9600 Compressor EDWARDS RV 12 Vacuum pump CTI-CRYOGENICS On-board cryopump with controller Control panel PC & Related parts.
SEMICORE SC9900 Sputtering Equipment est un système de pulvérisation ultramoderne, multi-cibles, à verrouillage de charge, conçu pour le dépôt de couches minces. Il est équipé des dernières avancées en matière de technologie de pulvérisation par pulvérisation multimodale pour fournir des couches minces à haut débit et uniformes sur de grandes surfaces. SC9900 est conçu pour gérer différentes charges de travail et fournit des résultats de production reproductibles et cohérents. L'Unité de pulvérisation SEMICORE SC9900 dispose d'une chambre à vide verrouillée avec deux cathodes. Il dispose d'une technologie brevetée de source de pulvérisation multi-cibles avec plusieurs cibles rotatives, permettant de déposer plusieurs couches métalliques en un seul cycle de traitement. Cette machine comporte trois modules de procédé distincts optimisés chacun pour deux procédés de dépôt : magnétron simple et double cathode et pulvérisation triodique. L'outil dispose également de deux sources d'arc pour la pulvérisation réactive à deux cathodes. SC9900 dispose également d'un pistolet sputter 12 cibles conçu sur mesure. Le canon est ergonomique et offre une alimentation directe vers le bas pour un accès optimisé à la chambre et un bruit minimal sur les cathodes. Sa source de pulvérisation multi-cibles fournit des performances de revêtement cohérentes et des revêtements uniformes sur de grands substrats. Le pistolet a un angle de pulvérisation réglable de 0 ° à 30 ° et deux buses indépendantes avec des configurations réglables pour un meilleur contrôle de la direction du matériau pulvérisé. La chambre à vide à l'intérieur de l'actif de pulvérisation est construite à partir de matériaux sacrificiels pour assurer une faible usure des billes et un contrôle supérieur de la contamination des particules. Il est équipé de systèmes de pompage performants, d'un mandrin de substrat en quartz chauffé à 875 ° C, d'une chambre de serrure à vide, d'une boîte à gaz à 5 positions et d'un collecteur de mélange de gaz. Tout cet équipement est conçu pour améliorer les taux de dépôt et assurer des résultats de processus reproductibles. SEMICORE SC9900 a une interface conviviale avancée, qui est conçu avec des graphismes supérieurs et des recettes programmables pour permettre un contrôle maximum sur les paramètres de processus. Le modèle est également compact et offre une efficacité énergétique exceptionnelle et des exigences de maintenance simplifiées. Toutes ces fonctionnalités font de SC9900 Équipement de pulvérisation un choix supérieur pour les systèmes de pulvérisation en ligne. Sa vitesse de dépôt élevée et sa conception compacte la rendent idéale pour déposer une multitude de couches de métal et d'oxyde sur de grands substrats et dispositifs en un seul cycle de traitement. Grâce à son interface conviviale, aux composants intégrés du système et à une meilleure cohérence des processus, cette unité est idéale pour enduire une variété de substrats avec des résultats uniformes, fiables et reproductibles.
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