Occasion SHIBAURA CFS-8EP-55 #293608660 à vendre en France
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ID: 293608660
Style Vintage: 2001
Sputtering system
Heater table: 380φ
(3) Targets, 5"
2001 vintage.
SHIBAURA CFS-8EP-55 est un équipement de pulvérisation qui a été conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs à couches minces. Cette machine est un outil puissant et polyvalent pour la création de films minces pour diverses applications, notamment : photovoltaïques à couches minces, technologies d'affichage, dispositifs MEMS à couches minces et biocapteurs à couches minces. Le système de pulvérisation fonctionne à basse pression et nécessite à la fois une chambre à vide et deux sources de pulvérisation de plasma ou plus. La chambre est en acier inoxydable et est capable d'une pression maximale de 3,2 × 10-1 Pa. À l'intérieur de la chambre, une paire d'aimants circulaires - appelés magnétron - entoure le matériau cible pour augmenter la densité du plasma en comprimant et en focalisant les ions. Ceci augmente la vitesse d'émission du matériau cible dans la chambre, ce qui améliore la vitesse et l'uniformité du dépôt des couches minces. L'unité de pulvérisation est équipée de deux sources de pulvérisation pour améliorer les taux de construction. Le LPH-30P comprend deux alimentations modulaires, un circuit de déphasage permettant de commander la phase relative aux deux sources, et deux électrodes de pulvérisation omnidirectionnelle de 0,8 cm. Le LPH-30P utilise la puissance continue (DC) pour atteindre un taux de couverture cible/substrat élevé. Le LPH-30P convient pour le dépôt d'oxydes, de nitrures et de métaux. L'autre source de pulvérisation de la machine, le PES-30P, est une source de plasma pulsé à distance avec un niveau de puissance plus élevé que le LPH-30P. Il fonctionne à un réglage de pression plus élevé et possède une électrode en spirale. Cette conception produit un plasma à plus forte énergie et un plus grand rayon de matière pulvérisée, ce qui entraîne un dépôt plus rapide et une meilleure uniformité dans les petites zones. Il est idéal pour le dépôt d'alliages et d'autres matériaux multicomposants. CFS-8EP-55 outil de pulvérisation offre également aux utilisateurs des capacités avancées de contrôle des processus. Un contrôleur connecté à la chambre permet de contrôler tous les paramètres en temps réel. Le contrôleur est équipé d'une interface utilisateur graphique basée sur Windows, fournissant une plate-forme facile à utiliser pour contrôler les différentes fonctions de l'actif. En outre, le logiciel permet un contrôle automatique des processus pour garantir les meilleurs résultats possibles de dépôt de film. Dans l'ensemble, SHIBAURA CFS-8EP-55 est un modèle de pulvérisation puissant et fiable conçu pour répondre aux besoins des projets de recherche et développement actuels. La machine permet aux utilisateurs de créer facilement des couches minces de haute qualité d'une gamme de matériaux, leur conférant la flexibilité et le contrôle ultimes lors du traitement des substrats sensibles.
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