Occasion SHIBAURA MECHATRONICS CCS-2800 #293815200 à vendre en France

SHIBAURA MECHATRONICS CCS-2800 est un équipement de pointe spécialement conçu pour les applications de dépôt de couches minces dans diverses industries telles que les semi-conducteurs, l'optique et l'électronique. Il intègre une technologie de pointe et des mécanismes de contrôle précis pour garantir des processus de revêtement efficaces et fiables. Au cœur de système CCS-2800 est sa chambre bafouillant, qui fournit un environnement contrôlé à la déposition de films minces sur substrates. La chambre est typiquement équipée de multiples cibles de pulvérisation en matériaux différents, permettant le dépôt d'une large gamme de revêtements aux propriétés variées. Ces cibles sont bombardées par des ions de haute énergie générés par une source de plasma, provoquant l'éjection d'atomes matériels et leur dépôt sur la surface du substrat. L'une des caractéristiques clés de SHIBAURA MECHATRONICS CCS-2800 est son unité avancée de génération de plasma, qui est cruciale pour obtenir des couches minces de haute qualité. La machine utilise des générateurs RF de grande puissance et un contrôle du champ magnétique pour créer une décharge plasma stable et uniforme dans la chambre. Ce plasma facilite non seulement la pulvérisation des matériaux cibles, mais contribue également au contrôle de la composition, de la structure et de la qualité du film. CCS-2800 intègre également un outil sophistiqué de manutention du gaz qui permet un contrôle précis de la composition du gaz et de la pression à l'intérieur de la chambre. Ceci est essentiel pour créer des compositions et des propriétés spécifiques du film, car différents gaz peuvent être introduits au cours du processus de dépôt pour modifier les caractéristiques du film. L'actif est équipé de régulateurs de débit massique et de manomètres pour garantir des débits et des pressions de gaz précis et reproductibles. En ce qui concerne la manipulation des substrats, SHIBAURA MECHATRONICS CCS-2800 offre une configuration polyvalente pour s'adapter aux différentes tailles et formes des substrats. Le modèle peut être équipé d'un support de substrat tournant, permettant un dépôt de revêtement uniforme sur des substrats de grande surface. De plus, la chambre peut être équipée de capacités de chauffage et de refroidissement pour contrôler la température du substrat lors du dépôt, ce qui est essentiel pour optimiser l'adhérence et la morphologie du film. CCS-2800 est contrôlé par une interface conviviale qui permet aux opérateurs de définir et de surveiller les paramètres clés du processus tels que la vitesse de dépôt, la puissance cible, les débits de gaz et la pression de la chambre. L'équipement dispose également de capacités d'automatisation avancées, permettant un traitement basé sur la recette et la surveillance et le contrôle à distance. Cela améliore non seulement la répétabilité et la cohérence des processus, mais aussi la productivité et l'efficacité globales. Globalement, le système de pulvérisation par pulvérisation SHIBAURA MECHATRONICS CCS-2800 représente une solution de pointe pour les applications de dépôt en couches minces nécessitant des revêtements de haute performance avec un contrôle précis des propriétés des films. Sa technologie de pointe, ses performances fiables et son fonctionnement convivial en font un outil précieux pour la recherche et le développement ainsi que pour les environnements de production dans des industries allant de la fabrication de semi-conducteurs aux revêtements optiques.