Occasion SHINCRON BSC-19043LT #293608265 à vendre en France
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ID: 293608265
Sputtering systems
Max temperature: 360°C
Operating temperature: 320~340°C
Substrate thickness: 0.4 / 0.55 / 0.7 / 0.85 / 1.1mm
Source:
(2) ITO HX Type
(2) Sio2 B Type
Substrate size:
(64) 300 x 300mm
(48) 300 x 320mm
(48) 300 x 340mm
(48) 300 x 400mm.
SHINCRON BSC-19043LT est un équipement de pulvérisation à double chambre utilisé dans diverses applications de recherche industrielle et scientifique. Il est constitué de deux chambres de dépôt montées sur un même axe avec un bras de rotation de transfert séparant les chambres. Des joints étanches au vide sont placés entre les chambres pour permettre des niveaux de vide élevés et des conditions de processus répétables. Le système peut traiter jusqu'à six substrats dans chaque chambre, et peut être adapté pour supporter une variété de tailles et d'épaisseurs de substrat. BSC-19043LT dépose jusqu'à quatre espèces de matières simultanément. Une caractéristique unique de cette unité est sa capacité à configurer des séquences de dépôt de matériaux en séquences pour deux ou trois matériaux, voire des couches séquentielles d'un seul matériau. SHINCRON BSC-19043LT présente un design ionisé propriétaire avec une homogénéité supérieure du film déposé sur la surface du substrat. Cette homogénéité supérieure est attribuée à la suppression réglable et dynamique des sous-produits que cette machine à pulvériser utilise. La conception ionisée et la suppression dynamique des sous-produits permettent également de mieux contrôler les paramètres de dépôt. Pour faciliter le fonctionnement et la sécurité, BSC-19043LT est équipé de dispositifs de sécurité qui protègent l'opérateur et l'outil contre les opérations dangereuses. Le filtre HEPA situé entre les chambres facilite le pompage efficace des contaminants. En outre, l'actif est facilement entretenu avec une variété d'options d'entretien préventif comme le nettoyage des tubes, la cuisson des plaquettes et l'entretien des fontaines. SHINCRON BSC-19043LT assure également un contrôle inégalé du processus de dépôt. Grâce à une technologie de contrôle avancée, le modèle utilise des capteurs de pression et de température pour réguler avec précision le débit de gaz, la pression et d'autres paramètres clés du processus. Ce contrôle finement ajusté se traduit par un rendement plus élevé et une meilleure uniformité du film tout en réduisant les cycles de processus. En fin de compte, BSC-19043LT est un équipement avancé de pulvérisation à double chambre capable de manipuler une variété de substrats et de matériaux avec une homogénéité supérieure. Combinant toutes les caractéristiques et capacités de ce système, c'est un choix idéal pour la recherche sur les matériaux et les applications de dépôt.
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